二手 FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Reflex #293662028 待售

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON REFLEX光刻設備是一種先進的光刻系統，旨在能夠處理半導體晶片上的高分辨率圖樣。該單元利用復雜的光學和先進的鏡頭設計來實現半導體晶片的高分辨率成像。FSI Reflex機利用多波長照明器為晶片表面提供均勻精確的照明。該工具能夠同時照亮具有多個波長的晶片表面，從而能夠同時照相曝光多層。照明器配有濾光片，可以對各種光刻膠層進行選擇性照明。TEL Reflex資產配備激光掃描儀，能夠對晶圓表面進行高分辨率成像。激光掃描儀能夠以極高的速度掃描晶圓表面。該型號能夠以每秒8000次掃描的速度掃描3.7mm x 3.7mm平方英裏面積，以每秒1次掃描的速度掃描8mm x 8mm平方英裏面積。TOKYO ELECTRON Reflex設備還配備了一個集成的系統控制器，可以精確操作設備參數。控制器能夠控制激光掃描儀、照明器和照明濾光片的機器參數。控制器還能夠監測光刻膠層厚度和晶圓反射率。反射工具與一系列先進的光刻材料兼容，包括i-line、深紫外線和X射線。該資產能夠處理一系列光阻圖樣,包括線條和空間圖樣、接觸孔以及其他幾種圖樣幾何。該模型還能夠處理多層光刻膠圖樣，如層間介電層。FSI/TEL/TOKYO ELECTRON REFLEX設備使用和維護簡單。該系統是獨立的,需要最少的維護。該裝置能夠自動控制溫度和濕度水平，以確保最佳性能。用戶可以使用集成的刀具控制器輕松修改機器參數和設置。FSI Reflex資產是一種先進的光刻模型，旨在能夠處理半導體晶片上的高分辨率圖樣。該設備采用多波長照明器、激光掃描儀和集成系統控制器實現晶圓表面的高分辨率成像。該裝置能夠自動控制溫度和濕度水平，以確保最佳性能。用戶可以使用集成的刀具控制器輕松修改機器參數和設置。該資產與一系列先進的光刻膠材料兼容，提供了處理多層光刻膠圖案的簡單高效的手段。