二手 FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Saturn #9036933 待售

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Saturn是一種光刻設備，設計用於為生產復雜的、高密度的半導體器件提供精確的光刻工藝。光刻膠系統由光源、投影光學單元和工藝室組成。光源提供紫外線，使光刻膠在晶圓表面暴露。投影光學機器將圖樣的圖像投射到晶圓上，從而可以精確地放置結構。該工藝室為晶片的外露提供了一個加壓、專業的光刻環境。FSI Saturn光致抗蝕劑工具能夠在磁性隨機存取存儲器（MRAM）、靜態隨機存取存儲器（SRAM）、數字信號處理（DSP）、芯片資產（SoC）、現場可編程柵極陣列（FPGA）和微處理器等設備上進行深紫外線（DUV）輻射。該模型可以將電路暴露在諸如矽、的、壓電石英等類似材料的基材上。設備的默認開發應用是提供從0.14 um到0.6um的最小特征大小,同時在整個曝光空間範圍內采用統一的分辨率。曝光方式包括自上而下的單片曝光、並排曝光和多次蒙版曝光。TEL Saturn光刻膠系統也能夠使用晶圓上的對準標記來進行超精確的模式對準，允許精度低至0.037微米。TOKYO ELECTRON Saturn photoresist unit被設計為提供一個可靠和簡單的平臺，用於開發微型規模的器件。該機功耗低，可同時配備大規模和小規模的加工室。它利用長波長的紫外線光源確保精確的光刻曝光，並采用先進的光學技術進行清潔和均勻的工藝。該工具配有集成的電動晶片級，在對準射門時允許精確的可控性和準確性。此外，土星光刻資產設計有觸摸屏交互式控制界面，可以方便操作和監測光刻過程。總體而言，FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Saturn光刻膠模型為用戶提供了一個可靠、準確和精確的平臺，用於開發微型規模的器件。各種曝光方式，機動化晶片級和長波長紫外線源的結合，使設備在整個曝光空間提供從0.14um到0.6um的特征大小，分辨率均勻。其強大的軟件定制功能和觸摸屏交互式控制界面使系統成為各種平版印刷工藝的簡單有效的解決方案。