二手 FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Zeta 200 #9031466 待售
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ID: 9031466
晶圓大小: 8"
優質的: 2002
Spray cleaning system, 8"
Robot options are available
2002 vintage.
FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Zeta 200光刻設備是一種精密的光刻和薄膜沈積系統，用於半導體器件制造。它設計用於從石英晶片到納米結構和其他復雜結構的各種基板上的高精度圖樣加工。其功能包括跨多個維度的圖樣化,具有精確的晶圓對準和卓越的光學性能。FSI Zeta 200單元的核心是具有高達3D功能的高分辨率掃描電子束（SEB）。SEB能夠以高精度和精確度將復雜的圖樣物理轉移到基板上。SEB的功能包括一個直觀的圖形用戶界面（GUI），用於控制光束光斑大小、光束電流和曝光劑量。此外，SEB還提供了對化學成分和幾何形狀的精確和快速掃描，以創建復雜的模式。該機器還具有自動晶圓對準功能，能夠將光束輪廓精確對準目標基板。TEL Zeta 200還利用了幾種類型的光致抗蝕劑,用於制圖過程的關鍵區域。它與正、負、雙色調的光致抗蝕劑一起工作，可以將感光材料沈積在多種晶片材料上，如石英、矽、砷化氙等。它具有行之有效的設計分辨率為1.0 μ m或更小的平版印刷版的能力。TOKYO ELECTRON Zeta 200用途廣泛,可方便地針對特定的應用進行定制。它為均勻薄膜提供了簡單、快速的批量加工，同時還為關鍵工序提供了爐烤裝載架和低濕度環境。此外，Zeta 200還配備了業界領先的離子束蝕刻工具，能夠將分辨率提高到1.5 μ m。離子束蝕刻資產保證了更好的蝕刻質量和均勻性，以獲得最大的產量。FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Zeta 200型號還提供了極高的精確度和控制,改進了缺陷排除和增強的工藝重復性。其輻射阻尼組件提供最大限度的防止X射線照射，並提供安全、健康的工作環境。這種設備非常適合要求高精度和可靠性的應用。它已被用於制造MEMS器件、納米設備、OLED顯示器和其他半導體器件。
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