二手 FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Zeta 300 G3 #9181244 待售
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單擊可縮放
ID: 9181244
晶圓大小: 12"
Spray cleaning systems, 12"
Canister consoles:
(6) Canisters, PTFE neck, No DVs
(2) 4-Position PVC-C consoles
Burst element caps
H2S04 Aspirator kit, 1/4"
(6) MYKROLIS Filters, QCDZ30P3F
(2) Chemical samplings / Shutoff boxes
MYKROLIS Filter WDFVATX2F
(2) CC Drip-trays
(5) 3/8" and (1) 1/2" CC Tubing, 10m
MHM:
STABULI TX90cr Cassette handler
Powder coated facade assembly
(4) PFA/Ti Wafer carriers, 12", 25-slots
(4) ASYST Load ports
0.07 Micron PTFE ULPA filters
BROOKS Wafer handler and controller
Fluid delivery module (PVC-C):
(5) 30-300cc Flow meters and operators
500-900cc Flow meter and operator
TREBOR 480V, 60kW Quartz DI heater
Process module:
HALAR cabinet
5-Port side bowl spray posts
(3) PTFE Drain valves
(3) PFA P-Traps
2-Position 12" PFA turntable
6-Valve chemical mixing block
Turntable hoist assy
Hot and cold rotary union
(2) Processes and cabinet exhaust damper
IR Heater with bypass
ViPR Hardware included
Operation and maintenance manuals
Digital versions
2008-2009 vintage.
FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Zeta 300 G3是一種光刻設備，專為精密和可重復光刻而設計，用於需要微電子、生物醫學和光學制造精細細節的應用。該系統配備了步進、掃描和翻轉芯片對準功能等先進的光刻能力，並采用了最新的電解質技術。FSI Zeta 300 G3是一個先進的i-line單元，使用戶能夠制造各種模式布局，減少了工藝時間，並取得了突出的效果。TEL Zeta 300 G3光刻機結合高速成像處理和獨特的先進光刻技術，提供高清圖像而不失真。它提供了最佳的成像過程和高分辨率的陣列處理功能,可產生小型結構,如100 nm以下的線條和空間。它還具有步進、掃描和翻轉芯片對準功能，可精確放置在生產基板上。TOKYO ELECTRON ZETA 300 G3利用電解質溶液從抗蝕劑膜中去除汙染，然後將抗蝕劑溶液應用到基板表面。這樣可確保最高級別的失真控制,並消除對多次刀路的需要。還將粘合劑應用於基板表面，以改善光刻效果，減少加工時間。該工具還配備了可變對焦鏡頭，可以調整對焦，以提高圖像的分辨率和對比度。此外，Zeta 300 G3還配備了一個源調諧部分，可以讓用戶調整曝光源的強度和分辨率。此功能使用戶能夠微調曝光劑量,而不會改變抗蝕劑處理條件。再者，可以配置FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Zeta 300 G3，使其自動校準至使用者的特定特性。總體而言，FSI Zeta 300 G3是一種具有許多先進功能的光刻資產，包括步進、掃描和翻轉芯片對準功能。它還有一個獨特的電解質溶液，以確保最高水平的失真控制，以及可變聚焦鏡頭和源調諧部分，以最大的精度圖像。因此，TEL Zeta 300 G3是任何微電子、生物醫學或光學制造的完美工具，需要精確的陣列。
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