二手 GCA / TROPEL Wafertrac 1006 #171562 待售

GCA/TROPEL Wafertrac 1006是一種光阻設備，設計用於提供半導體晶片的精確對準和處理。該系統特別擅長處理大型基板，具有多種特點，使其成為市場上最可靠可靠的系統之一。該單元的核心包括一個功能強大的6軸控制器，能夠精確對準晶圓和基板，而另外一個ARM伺服放大器則提高了定位過程的精度。這保證了機器可以處理各種各樣的基板，包括玻璃、矽和金屬。為確保精度，GCA Wafertrac 1006包含一系列定位技術，包括直徑補償和執行器級補償。這使得工具能夠補償任何尺寸的扭曲和錯位，從而使材料的定位更加精確。此外，該資產還具有一種稱為「光學掩模」的功能，可提供增強的邊緣檢測和防止顆粒汙染，從而提高輸出的整體質量。此外，TROPEL Wafertrac 1006采用高分辨率CCD相機設計，提供精確準確的基板定位。它的高分辨率成像和檢查能力還允許精確和精確的光刻膠應用，使其成為近場成像和應用化學和生物制劑的理想選擇。Wafeertrac 1006還包括一系列振動控制系統，確保模型穩定、無噪音，並提供出色的重復性。它具有低氣流設備，可最大限度地減少顆粒物碎片，並可精確控制光致抗蝕劑材料。此外，1006還包括精確的自動晶片處理，支持多個晶片載體和廣泛的機器人。這大大縮短了工藝時間,使其在超高生產環境中非常高效。綜上所述，Wafertrac 1006是一種先進的光阻系統，旨在提供半導體晶片的精確對準和處理。該單元擅長處理大型基板，采用多種定位技術，如直徑補償和執行器級補償。它還包括用於精確光刻應用的高分辨率CCD攝像頭，以及用於穩定和可重復過程的振動控制系統陣列。該機還支持多個晶圓載體和廣泛的機器人，使其成為超高生產環境的理想工具。