二手 HEADWAY PWM101 #168411 待售

HEADWAY PWM101 Photoresist Equipment是一種UV-light exposure system,專為光刻膠應用的直接成像而設計。該裝置配備了車載「直接成像」顯微鏡，與光刻晶片配合提供增強的圖像觀察和精確定位。該機器還配備了專利的兩軸反射鏡偏轉工具,可確保精確對準光刻晶片的目標區域。資產的設計還允許用戶使用可變光源改變曝光強度，從而能夠精確控制光刻膠工藝。該模型配備了精確的雙串石英光源，與光刻膠變化的光譜靈敏度相匹配。這種雙串石英光源具有一致的光強均勻性和長期的可靠性。光源也被緊緊地安置在一個集成的安全罩和玻璃室中，從而減少了通過設備損失的光量。該系統還包含一個專有的鏡面偏轉單元，能夠將光刻膠材料精確地傳遞到正確的區域。機器使用沿兩軸X-Y方向運行的機械驅動器，允許將光敏材料精確放置在正確的區域。分辨率為1.5 µm，可重復性為0.01 µm，光敏材料的定位精度高、精度高。最後，該工具還有一個計算機控制界面，可以方便的資產設置和操作。軟件與模型集成，用於調整光源強度、相機曝光和鏡面角度，以達到理想的效果。這使用戶能夠快速調整並微調光刻膠處理,而無需手動幹預或硬件更換。綜上所述，PWM101光敏設備是一個高度先進的系統，旨在提供對光敏過程的精確控制。該單元具有長期的可靠性和多功能性，以及可調光源強度、相機曝光和鏡面角度。該機器還具有計算機控制界面，使其易於使用，並允許快速高效地調整自定義設置。