二手 HITACHI MA-Ni02 #293662279 待售

HITACHI MA-Ni02是用於集成電路（IC）制造的光阻系統。該系統利用多種技術來實現IC的理想結果。這些技術包括：光致抗蝕劑層暴露於紫外線輻射、蝕刻、層壓和濺射。將紫外線輻射施加到光刻石層，用於將所需的圖樣暴露在矽片上。光致抗蝕劑對特定波長敏感，暴露於輻射後會變得不溶解。圖樣曝光後,蝕刻過程開始。這包括去除不需要的材料和塑造陣列區域，以便創建一個集成電路。光致抗蝕劑層的層壓包括使用薄膜，然後將薄膜鋪在裸露和蝕刻的材料上。層壓有助於保護IC免受損壞,並防止陣列區域發生任何進一步的變化。濺射是將一層薄薄的氮化物顆粒噴灑到晶圓上的過程。這些顆粒遵守圖案化的區域，形成額外的絕緣層。完成此過程是為了防止在IC上發生任何短路。總體而言，MA-Ni02光致抗蝕劑系統用於通過使光致抗蝕劑層暴露於紫外線輻射、蝕刻圖案化區域、層壓層以及濺射一層薄薄的氮化物顆粒來創建集成電路。這些步驟創建了一個可用於創建集成電路的所需模式。