二手 INTELLIGENT MICRO PATTERNING SF-100 #9390791 待售
網址複製成功!
單擊可縮放
ID: 9390791
優質的: 2009
Maskless lithography system
Maximum size of substrates: 200 mm x 200 mm
Wavelength: 365-578 nm
Mercury lamp: 200 W (Resource of work 1000 hours)
Minimum element size: Up to 1 µm
Grayscale exposure: 768 Levels
Vision system: CCD Camera
Control: Standard PC, User interface
Data format: BMP, DXF
Automatic focusing
Semi-automatic combination
Optics: Standard optics, high resolution optics
Backing plate
XY-Axis travel:
Accuracy: ±200 nm
Repeatability: ±50 nm
Z-Axis travel:
Total travel: 25 mm
Accuracy: ±200 nm
Repeatability: ±75 nm
Theta movement:
Rotation: 360°
Accuracy: ±5 arc sec
Repeatability: ±2 arc sec
Vibration protection: Anti-vibration base
Vacuum: -0.6 bar
Pneumatic supply: 5-6 bar, 0.5 m³/h
Power supply: 200 V, 50-60 Hz, 7 kW (Maximum)
2009 vintage.
智能微觀圖樣SF-100智能微觀圖樣設備是一種先進的光刻系統,用於半導體器件制造和微觀制造等應用。它利用先進的機器視覺技術,為產品的微型化提供高精度和精確度。SF-100單元采用獨特的雙曝光技術和明確定義的光源,以實現優異的特征分辨率和均勻性。INTELLIGENT MICRO PATTERNING SF-100具有高精度的光學定位系統,使其能夠將光刻膠層與設備基板精確對齊。它還具有自動曝光和開發模塊,可確保光刻膠充分曝光。此模塊還可以支持高分辨率和中分辨率陣列,從而確保將由於暴露不當而可能出現的任何缺陷降至最低。SF-100還擁有先進的過程控制系統,使光刻膠層能夠統一和適當開發。這對於實現高度準確的模式至關重要。該機器還包括一個激光Writehead,它使用不同波長的激光器將圖樣直接寫入光刻膠上。該工具配有高分辨率的光學成像資產,可以由用戶確定。它可以用來方便細微的圖樣與小於5 um的特征.此模型可用於涉及更精細細節的光刻作業,如溝槽、凹槽或凹坑。INTELLIGENT MICRO PATTERNING SF-100 INTELLIGENT MICRO PATTERNING EQUIPMENT在印刷和開發方面提供最大它兼具批量和連續模式操作,以更好地適應高度復雜的作業。它還具有一系列兼容的塗層和光敏材料,以適應不同的設備應用。SF-100系統使用直觀的圖形用戶界面易於操作。它允許用戶快速準確地調整單位參數。它還包括多個安全系統,以確保光刻膠和裝置基板在整個過程中保持原始狀態。INTELLIGENT MICRO PATTERNING SF-100 INTELLIGENT MICRO PATTERNING MACHINE是制造高品質、超精確微模式的寶貴工具。它具有為各種應用(從半導體器件制造到微加工)制作緊密的特征模式的能力。憑借其可靠的操作和精確的結果,SF-100非常適合實現最高的設備精度和重復性。
還沒有評論