二手 IZOVAC AOC-M #9249484 待售

IZOVAC AOC-M是專為微電子材料的選擇性蝕刻而設計的高品質光阻系統。它是微電路制造的行業標準，適用於濕蝕、升空、化學蝕刻、蒸氣蝕刻、濺射等多種工藝。該系統采用獨特的光敏有機化合物，既用作光刻膠，也用作蝕刻膜。這種組合允許精確和均勻的圖樣和蝕刻，同時防止不良殘留物在晶圓表面上形成。AOC-M由兩個組件組成：光阻和蝕刻面膜。光阻劑在暴露於特定波長的輻射之前被塗在基板上。輻射使照片抗性變硬，成為幹燥的膠片。這種幹燥的薄膜起到遮罩的作用，防止蝕刻進入基材未受保護的區域。蝕刻蒙版應用在光阻層之後。它們通常由有機化合物組成，它對蝕刻溶液產生反應，保護底物免受不利蝕刻影響。在某些情況下，蝕刻面膜還可以促進蝕刻過程，減少循環時間和增加吞吐量。一旦光致抗蝕劑和蝕刻面膜到位，面膜/基板就可以受到特定蝕刻條件的影響。蝕刻劑會與底物未受保護的區域發生反應，而光刻膠和蝕刻面膜會保護所需的區域。這種類似晶格的蝕刻和掩模圖樣形成了一個圖樣化的電路層。光刻膠和蝕刻膜的結合使IZOVAC AOC-M成為各種微電子制造任務的理想選擇，包括圖樣制作、選擇性蝕刻和工藝控制。該系統具有很高的準確性和可重復性,非常適合設備級別或組件級別的流程。此外，AOC-M的魯棒性使得它適合廣泛的蝕刻化學。最終，IZOVAC AOC-M提供了現代微電子制造所需的嚴格技術。