二手 IZOVAC Heliosiz #9395189 待售
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ID: 9395189
PEVCD Coater
Type: Lying down
Substrate: Silicon wafer
Membrane: a-Si:H, doped a-Si:H, SixNy:H
Substrate size: 156.75 mm x 156.75±0.25 mm
Deposition rates: 0.1 - 5 nm/sec
Coating technology: (2) CCPs
Double sided coating
Coating thickness: ≤±3% (Single layer)
Dry mechanical pumps
Process temperature: Up to 250°C
Manual loading / Unloading
Acceptance test: TBD
Chamber pressure:
Ultimate pressure: 1.1 Pa
Working pressure: 100 Pa - 1000 Pa.
IZOVAC Heliosiz是一款先進的光刻設備,旨在提供極其精確、一致和可重復的微塗層結果。它提供了一種嚴格控制的工藝,提高了復雜塗層在各種基材上的精度和可重復性。該系統將對所有塗層參數的全自動控制與綜合計量相結合,允許快速的過程反饋和優化。該過程從使用電子束(EB)或深紫外線(DUV)曝光在基板上形成抗蝕層開始。然後利用緩沖水性顯影溶液開發暴露的抗蝕層,以顯示所需的表面圖樣。一系列的後暴露烘烤和後顯影烘烤選項確保了最佳膜的形成.自動化軟件控制單元允許基板加熱、曝光和加工參數易於調整。它還在整個過程中提供了出色的數據完整性和可追蹤性。為了確保批次之間的均勻性,機器包括自動采樣和自動調整所有工藝參數。Heliosiz使用專門的流明線技術精確定位曝光頭,以減少抗蝕層重叠的可能性。可以修改確切的暴露時間和暴露時間,以應對各種挑戰,例如高水平的粉塵汙染。它還提供曝光後烘烤,必要時,以防止過度曝光更微妙的抗蝕層。IZOVAC Heliosiz使用專門的染料塗層功能為設備提供多種塗層。該特征可用於保護細膩的特征,增強抗性材料的附著力,方便敏感活性材料的沈積。可以使用適當的計量工具來評估由工具執行的任何塗層的最終性能。Heliosiz是一種用途廣泛、功能強大且精確的光刻膠資產,為各種基材提供高度可重復的塗層效果。自動化的過程控制和過程優化允許嚴格控制所有過程參數,而計量則允許快速調整模型的反饋。這為生產環境中已證明的一致過程提供了基礎。
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