二手 KARL SUSS / MICROTEC CL200 #293793211 待售
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ID: 293793211
晶圓大小: 6"
優質的: 2010
Megasonic cleaner, 6"
Vacuum chuck
Substrate size: 4"x4", 5"x5"
Maximum spin speed: 4000 RPM
Maximum field of view: Ø75 mm
2010 vintage.
KARL SUSS/MICROTEC CL 200是為半導體制造中的高精度、高通量光刻工藝而設計的光刻設備。該系統是制造集成電路和微電子器件的關鍵工具,能夠以亞微米分辨率對基板上的特征進行陣列設計。MICROTEC CL 200單元結合了先進技術和用戶友好的功能,以滿足現代半導體制造的苛刻要求。在KARL SUSS CL 200機的核心是一個精密對準,它是用來精確定位一個光掩模在塗有光刻膠的基板。該對齊器利用高分辨率光學和復雜的對齊算法來確保遮罩和基板之間的適當覆蓋。這種精確的對齊方式對於創建具有所需分辨率和尺寸控制的模式至關重要。CL 200工具配備了多種曝光模式,包括接近、軟接觸和硬接觸模式,以適應廣泛的工藝要求。每種曝光模式在分辨率、模式保真度和吞吐量方面都具有獨特的優勢,使工藝工程師能夠針對不同的應用優化其光刻工藝。KARL SUSS/MICROTEC CL 200資產的主要特點之一是其先進的自動化能力。該模型配備了機器人基板處理程序,可以高精度和重復性地裝卸基板。這種自動化不僅提高了設備的吞吐量,而且還降低了處理相關缺陷的風險,從而提高了制造過程的總體產量。MICROTEC CL 200系統還包含用於過程控制和監測的高級軟件工具。工藝工程師可以實時監控關鍵參數(如溫度、濕度、暴露劑量和對齊準確度),使他們能夠及時調整以優化工藝性能。該單位的軟件還支持配方管理,允許工程師存儲和召回不同光刻步驟的工藝參數,進一步提高工藝的可重復性和效率。除了先進的技術能力外,KARL SUSS CL 200機器還設計了用戶友好的功能,使其易於操作和維護。該工具直觀的圖形用戶界面提供了光刻過程的清晰可視化,使操作員能夠監視制造步驟的進度並排除可能出現的任何問題。資產還配備了用於主動維護的內置診斷工具,有助於最大程度地減少停機時間並確保性能一致。總體而言,CL 200光刻膠模型是半導體制造中用於高性能光刻工藝的通用可靠工具。KARL SUSS/MICROTEC CL 200設備以其先進的技術、自動化能力和用戶友好的特點,為半導體制造商提供制造高產量、高質量的復雜微電子器件所需的精度和控制。
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