二手 KARL SUSS / MICROTEC Gamma 4M #293601750 待售

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ID: 293601750
優質的: 2007
(2) Coater / (1) Developer system Single end effector robot, 2"-4" GENMARK Robot Gas sensor cabinet Chemical delivery tank pressure cabinet CI Gas pressure regulator Developer: (2) Dispense arms Plate stack (4) Hot plates Chill plate Vapor prime chamber (Vacuum) Coater 1 : Process: BCB (3) Wafertech resist pumps Coater 2: (2) IWAKI Thin resist pumps PC Manuals Spares Power supply: 400 V, 3 Phase, 13 kVA, 60 Hz 2007 vintage.
KARL SUSS/MICROTEC Gamma 4M是一種光刻膠設備,設計用於光刻膠的精確和精確開發。它是一個緊湊而堅固的光刻系統,可以滿足現代納米加工和光電應用的苛刻要求。MICROTEC Gamma 4M由準分子激光器、模板發生器、模式發生器、正交級、掩模對準器和計量單元組成。準分子激光器基於MICROTEC最新的激光平臺,具有最先進的波長控制機器,在曝光時提供最高的重復性和準確性。激光的光束輪廓被設計成在很短的時間內均勻地暴露出均勻的抵抗結構。模板生成器使用高分辨率液晶屏來啟用高級掩碼模式,如SU-8、AZ-5214和高級集成結構。LCD針對低但非常精確的聚焦深度進行了優化,從而實現了最先進的分辨率級別。圖樣發生器采用激光書寫工具,專門設計用於光刻高精度和亞微米結構的沈積。正交級允許對掩模對齊器和模式生成器進行精確對齊。Mask Aligner在開發過程中提供了盡可能高的分辨率,並采用了高精度、高度可調的設計,允許在整個光刻膠區域中均勻曝光。最後,計量資產確保KARL SUSS Gamma 4M的所有參數都符合要求的標準和規格。Gamma 4M機型提供了當今市場上最先進的光刻膠工藝之一。它是專業納米加工和光電實驗室以及研發機構的理想選擇。KARL SUSS/MICROTEC Gamma 4M通過提供高分辨率激光寫入設備、先進的液晶屏幕和可調節高度的掩模對準器等功能,成為當今最可靠、最精確的光刻系統之一。
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