二手 KARL SUSS / MICROTEC Gamma #293745275 待售

KARL SUSS/MICROTEC Gamma是一種光致抗蝕劑設備，用於在各種表面上形成精細圖案。光刻膠系統由晶片級、遮罩架和照明單元三大部分組成。晶片級是保持要陣列的表面的部分。它由一個高度精確的步進電動機組成，用於在X、Y和Z方向上精確移動表面。掩模支架安裝在晶片級上,並保持光掩模。光掩碼用於將圖樣從掩碼傳輸到表面。照明機由一個強大的紫外線源組成，典型的是水銀弧燈，用來通過面罩照射光線，以暴露光刻膠。MICROTEC Gamma是一種高度精確的工具，能夠始終如一地產生高分辨率的精細圖案。它以站立晶片模式運行，保持曝光源與曝光表面之間的恒定表面距離和曝光距離。晶片級的位置分辨率為1微米，可重復性為+/-0.005微米，可實現更高精度的模式定位。此外,掩模支架能夠以0.1度的步長在0-20度之間成角,從而消除了由於角度差異造成的圖樣失真。KARL SUSS Gamma可以與多種光抗蝕劑結合使用，包括正負光抗蝕劑以及厚抗蝕劑。這種光致抗蝕劑資產采用兩級曝光方法，這意味著曝光的圖案精確到更精細的細節，並且在沒有針孔或陰影的區域內極為均勻。此外,由於其精確的X、Y、Z定位模型,此設備可用於以各種技術和各種特征尺寸（例如薄至50 nm的抗蝕線）對多層進行陣列化。伽瑪是開發亞微米尺寸、單層和多層圖樣到各種基板上的理想光刻膠系統。其強大的設計、高精度和可重復性使其成為納米電子領域復雜模式的研究、開發和生產的理想選擇。