二手 KARL SUSS / MICROTEC RC 8 MS2 #9262863 待售

KARL SUSS/MICROTEC RC8 MS2是設計用於先進光刻工藝的光刻設備。它能夠形成高達20 μ m厚的光致抗蝕層，快速的發育時間僅為60秒。該系統配有加熱真空卡盤和自動曝光級，可精確控制抗蝕劑厚度和臨界尺寸精度。該設備的設計可靠性是為了獲得最高質量的照相打印機,其分辨率遠遠超出標準接觸打印機的分辨率。它與廣泛的光致抗蝕劑高度兼容；MICROTEC RC8 MS2上的焦點調整機和自動定位階段確保了準確的重復性。該工具包括一個用於旋轉塗層的頂部加載旋轉器，以及一個保持恒定抵抗厚度的電動升降機。KARL SUSS RC8 MS2還擁有先進的控制軟件和優化的用戶界面。所有這些功能,加上專門的報告生成、與SOP的集成以及其他高級光刻軟件,使該資產成為那些需要最高性能和質量的用戶的強大而可靠的解決方案。RC8 MS2采用電磁幹擾（EMI）技術精確控制沈積過程。這項技術有效地控制了高頻電子的流動，從而防止了抗蝕層在開發過程中受到破壞或破壞。該模型還配備了先進的軟件，能夠對抗蝕劑輪廓進行預測建模，從而確保光圖案的準確性和可重復性。KARL SUSS/MICROTEC RC8 MS2既兼容液體光刻膠又兼容厚膜光刻膠，適用於生產級微結構激光燒蝕和光學光刻。適合於微電子器件、MEM、微透鏡、納米線等的開發。MICROTEC RC 8 MS2包括一個大型真空卡盤，能夠容納尺寸達300毫米的光刻膠，並提供25 C°至250 C°的大溫度範圍。該設備還包括一個蜂箱化學模塊，最多有四個站。最後,系統具有觸摸屏界面和自動環境控制,包括清潔周期設置。綜上所述，KARL SUSS RC8 MS2是一種可靠、性能高的光阻裝置，能夠生產出分辨率最高的高精度和復雜的光相片。它提供了廣泛的功能,包括高級控制軟件、高級EM輻射技術、自動暴露階段、預測建模功能和自動環境控制,使其成為那些需要最高質量的光圖紙和抗拒輪廓的用戶的完美解決方案。