二手 KARL SUSS / MICROTEC RC 8 #9207171 待售

KARL SUSS/MICROTEC RC 8是一種光阻設備，專門設計用於生產高分辨率的微結構和集成電路。這個系統使用暴露於紫外線（UV）光下的單個抗蝕層來創建電子束抵抗圖像。該設備能夠在直徑最大為8英寸、分辨率為5 μ m的晶片上產生具有亞μ m特征大小的高分辨率圖樣。MICROTEC RC 8單元的設計允許非接觸和接觸曝光模式。在非接觸模式下，樣品在使用真空卡盤抵抗暴露期間保持在適當位置。然後使用電子束根據載荷模式將適當的幾何形狀編程到抗蝕劑表面上。在接觸模式下，使用模具般的抗蝕面膜來暴露晶片表面。在精確度方面，這臺機器的特征尺寸分辨率為5 μ m，可以暴露低至10 μ m的曝光線長度的圖案。該工具還包括最高溫度為250 °C的Hotplate。這允許優化模式從抗蝕層轉移到底層材料的過程。此外，資產還可以在空氣、氮氣或真空中操作。這使芯片生產商能夠在制造過程中減少汙染物的產生。KARL SUSS RC8型號配備了多種安全功能，使其用戶友好且使用安全。它具有保護用戶免受UV光影響的外殼，防止意外暴露於UV光的互鎖，以及有助於確定圖像曝光時圖樣阻擋區域的alpha源。此外，該設備還可以與各種抗蝕劑一起使用，並且易於在幾批晶片之間進行清潔。總體而言，RC8系統能夠在特征大小分辨率低至5 µm的晶片上產生高分辨率模式。還配備了多種安全特性，使用方便。該設備功能廣泛，非常適合用於生產高分辨率微結構和集成電路。