二手 KARL SUSS / MICROTEC RC 8 #9365908 待售

KARL SUSS/MICROTEC RC8是一種光刻設備，在多種薄膜和光掩模基板上進行臨界蝕刻和光刻工藝。該系統使用嚴格的照相過程將圖樣輪廓到薄膜層上，這些薄膜層可應用於各種基板，用於集成電路應用。具體來說，它可以處理直徑可達400毫米的基板，並且可以裝備處理各種特種抗性材料如AZ、GX1、GX2和PFE。該單元使用高度精確的對齊機，以確保跨基板的圖樣緊密配準；包括一個16點自動對焦工具，可用於幫助在復雜的基板表面上定位和塑造抗蝕劑圖案。此外，該資產的設計目的是利用兩個基板移動水平，這有助於提供現場登記的精確度。該模型可實現直接寫入激光光刻，對於快速快速高精度地創建復雜圖樣特別有用。此外，還針對幹蝕刻、濕蝕刻和深反應性離子蝕刻等激進的灰化和蝕刻工藝進行了優化。除了直接寫入激光光刻之外，該設備還能夠使用各種可用於將圖樣直接暴露於基板表面的光掩模。這樣就可以以比直接激光光刻更高的精度創建更詳細和復雜的圖樣。MICROTEC RC 8既有高功能又有低成本的流程。它設計用於低電荷和低熱負荷,這意味著KARL SUSS RC8既可用於快速原型設計,也可用於高效批量生產高質量和復雜的詳細模式。此外,它的5 µm精度可確保在多個使用周期內以保持一致的緊密公差復制圖樣。總體而言，RC8的設計旨在為各種集成電路應用提供精密的光刻蝕刻和光刻工藝。它能夠以精確的配準方式將圖樣暴露在基板表面，從而對質量一致的復雜圖樣的批量生產非常有用。