二手 KYOWA RLE-52ES #9393172 待售

KYOWA RLE-52ES是一種光刻光刻設備，利用光源將圖像或線圈的投影投射到基板上，用於各種印刷和制造目的。該系統適用於包括PCB制造和光學在內的各種苛刻應用。這種高精度的工具可以將模式提交到亞微米級分辨率，以便精確準確地生產。此外，結合先進的掃描技術，其快速穩定的照明能力提供了卓越的分辨率和均勻性。RLE-52ES光源已被確定為最高效率和光纖兼容。它由兩個具有高電流電源的弧光燈組成，而另一個電源為均勻照明部分提供照明。額外的照明選項，如UV波長靈敏度允許更廣泛的模式設計的可能性。該機配備了自動化的舞臺控制，對各種基材具有較大的掃描面積。改進的分辨率、準確性和可重復性可提供更高的性能和效率。曝光區域的中心由X、Y和θ軸對齊，並且由於先進的自動校正工具而易於調節。KYOWA RLE-52ES中的光致抗蝕劑非常重要，因為它允許形成圖樣所需的適當曝光時間。資產的虛擬對齊系統通過將曝光區域中心模式與曝光的設計進行比較來確保精確對齊,從而確保完全準確的流程。對齊模型還可以減少工藝過程中出現的失配現象，提高產量，優化工藝性能。作為光刻的重要組成部分，開發者還必須考慮基板內的缺陷水平。RHS-SAF51及其輔助系統對缺陷進行檢測和分類，而設備的光源和自動化特性可以控制底物缺陷的可檢測性。此外,RLE-52ES功能優化了配方創建選項,以增強缺陷控制和精確確定關鍵維度（CD）區域。總體而言，該系統為用戶提供了一種用途廣泛且準確的光刻方法。其高質量的分辨率、自動化的特性和缺陷控制組件允許廣泛的應用和快速而精確的制造過程。