二手 LAURELL WS-400B-6NPP #293822285 待售

LAURELL WS-400B-6NPP是一種臺式光敏處理設備，適用於許多電光處理應用，如薄膜沈積、蝕刻、絕緣層壓、光敏塗層等。這款先進的多合一系統旨在為用戶提供卓越的性能和嚴密的流程控制。它具有一個特色的溫度控制平臺，一個強大的6kV電源，和一個4區擴散照明。溫控平臺有一個大的處理室，可以達到最高80°C的溫度，並且可以設置在1°精度以內，用於精密處理細膩的光掩模和抗蝕層。4區漫射照明器可設置為達到25至75 W/cm2的照明水平，同時仍可在光掩模或晶圓的整個表面提供均勻照明。這樣可以使抗蝕層更均勻、一致的平版印刷曝光。此外，照明可以微小的增量調整，以微調光刻工藝。WS-400B-6NPP的電源最大功率輸出為6kV。這允許在晶圓或光掩模上沈積保形薄膜或形成定義明確的蝕刻圖樣，同時仍保持嚴密的工藝控制。LAURELL WS-400B-6NPP具有6kV的動力源，可以用來刻蝕深溝和特征，從而準確地產生微流體通道等結構。此外，該裝置還配備了專用的激光感應溫度控制（LITC）機，用於測量光刻過程中光刻膠的精確溫度，以盡量減少熱漂移並確保最佳光刻效果。還包括一種自動抗蝕劑塗層工具，它允許將抗蝕劑層均勻分配到晶圓或蒙版上。這樣可以確保準確和一致的結果,並最大限度地減少因手動分配抗蝕劑而產生的變化。總體而言，WS-400B-6NPP是一種先進且用途廣泛的資產，適用於各種不同的光刻膠處理應用。通過其精確的溫度控制、6kV電源、4區漫射照明器、自動抗塗層模型，用戶可以在實現嚴密工藝控制的同時實現精確一致的光刻效果。