二手 LEYBOLD APS 1104 #9092775 待售
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ID: 9092775
優質的: 2009
Evaporator
Mechanical pump
Quartz head monitoring
Diffusion pump
Root pump
Dual E-beam guns
MFC's Chambers
Coating materials: TA2O5 and SIO2
Arch fixture
Pumping system:
Mechanical pump set:
(2) Stages: Single stage / Dual stage
Rotary
Roots
RUVAC WS501 11732
TRIVAC D65B
Diffusion pump ((7) Screw connections)
OMS 3000 Optical monitoring system
Poly cold unit
Film thickness monitor:
XTC-3 Crystal film thickness monitor
Single quartz crystal
APS System:
APS Plasma source
Standard leycom APS
K9 APS Control unit
TA150 APS Power supply unit
TP250 APS Heater unit
EB-Gun system:
(2) EB Guns ESV14
EB Gun HV 10.3
Shielding:
Cooling water division
LEYBOLD APS 1104 Manual
Voltage: 380 V
2009 vintage.
LEYBOLD APS 1104是專門為用戶提供光刻工藝完整、準確的工作流程而設計的光刻設備。該系統由一組工具組成，用戶可以在任何需要的環境中精確地模擬曝光和開發光刻工藝。在其核心，APS 1104使用4步工藝來準備晶圓曲面。首先，晶片暴露於能夠產生紫外線和深紫外線的光源。這種暴露會使光致抗蝕劑變硬和變敏。其次，在顯影浴中開發光致抗蝕劑，以暴露底層底物。第三，晶片經過濕蝕刻過程來定義曝光模式。最後,晶片經過後處理蝕刻,在此過程中將曝光的圖樣轉換為所需的3D輪廓。該設備還具有許多令人印象深刻的功能，例如其先進的光學成像機，它可以檢測到小到10nm的遠場非線性。該工具有助於減少光刻膠的汙染，並與運動資產一起調整光的焦點，以便準確地暴露整個視野。LEYBOLD APS 1104每小時也可以處理多達1000個晶圓，確保開發時間最多為每種模式20分鐘。其低溫操作，加上其數字溫度控制器和熱電偶，確保了光刻膠層在過程中不會受到損壞。APS 1104具有很高的精度，部分由其高精度步進控制器和壓電傳感器實現。該模型還具有直觀的用戶界面,以及各種調試工具,使用戶能夠快速輕松地對光刻過程進行建模。總體而言,LEYBOLD APS 1104是光刻設備的絕佳選擇。它精確高效，是光刻工藝發展的理想選擇。
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