二手 LEYBOLD APS 1104 #9226191 待售

LEYBOLD APS 1104是一種光刻設備，設計用於光刻和高精度光刻工藝。它特別適用於微電子器件的制造和納米技術。光刻膠系統由光源和光學器件、光掩模以及光刻膠塗層應用和固化站組成。光刻裝置有一個可定制的光源，它由耦合到可調光機的光源組成。該光源設計為提供寬廣、均勻的光圖樣能力，具有可調的光學聚焦和均勻的光斑尺寸。這確保了光敏區域的最佳均勻曝光。一個集成的快門和強度控制允許多次曝光與不同的光強度的設計特點的細化。Photomask工具是打印工作站的重要組成部分。用於打印和曝光過程中的對齊和配準。光掩模工具可根據自定義角度和旋轉角度進行調節。此外，它高度精確和微調的註冊有助於在基板上實現均勻覆蓋。光致抗蝕劑塗層站設計用於均勻應用和固化光致抗蝕劑。它有一個集成的旋轉和滾動分配噴嘴，提供均勻，均勻覆蓋基板和應用的連續模式。固化站允許預定義光刻膠固化的溫度和持續時間。APS 1104還具有一個集成的洗滌和幹燥站，用於去除和開發基板上的結構。該站包括一個刷子工具，非常適合在光刻沈積之前清潔基板表面。總體而言，LEYBOLD APS 1104是微電子和納米技術研究應用的優秀光刻資產。其可調光源和光學器件、光掩模、光敏塗層站提供了光敏區域的精確控制和均勻曝光。該模型還配備了一個洗滌幹燥站，用於準備和開發基板上的結構。