二手 LEYBOLD APS 1104 #9377873 待售
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已售出
ID: 9377873
Vacuum deposition system
Chamber
Water manifold
Compressed air network
Control cabinets
Internal meissner trap
Planetary rotation drive
IR Heaters
Manuals
D65 Mechanical pump
WS501 Roots pump
ALCATEL / ADIXEN / PFEIFFER DIF501 Diffusion pump
Vacuum valves
POLYCOLD 1104-HC Pump with refrigerator
Combivac CM31 Vacuum gauge with gauge head
ITR100 Vacuum gauge with gauge head
THERMOVAC Gauge
Gas inlet system:
(3) Mass Flow Controllers (MFC) with valves
Tubing
Feedthroughs
APS Plasma source with power supplies
Deposition sources:
2- ESQ 212 E-Guns with rotation motor
Shutter assembly
HV10.3 E-Gun power supply
With programmable deflection controller
Remote control for E-gun sources
OMS 3000/R Thickness monitor
(3) Crystal sensors
(2) Dual sensors
With (2) QSM boards
LEYCOM IV
Automatic process and controller.
LEYBOLD APS 1104光刻膠設備是一種高效、低成本、可靠的光刻膠加工工具。加工光致抗蝕劑包括將感光膜施加到基板上，然後將膜暴露於產生光致抗蝕劑的光中。這種光致抗蝕劑，一旦圖樣已經被蝕刻到它，作為一個層阻斷雜質擴散到基材。APS 1104光刻膠系統采用閉環設計，具有多個可互換的濕處理模塊，每個模塊都針對特定的光刻膠工藝量身定制。這使用戶能夠創建和復制復雜的圖樣和光刻膠層,包括高分辨率和可重復的圖樣。此外,該單元還具有靈活性,具有可互換模塊和廣泛的配置,可滿足各種應用程序要求。LEYBOLD APS 1104光刻機效率高、性價比高，在印刷和膠版光刻、印刷電路板、微加工和表面安裝技術等多種應用領域使用時，提供卓越的圖像質量。該工具提供多區域設計、泵站和過程監控資產，旨在減少在給定光刻步驟中花費的時間。此模型還可以配置為在單個運行中生成復雜的陣列模式,從而提高效率並消除多步驟光刻過程帶來的潛在錯誤。此外，APS 1104光刻設備能夠控制所需基板上塗層的厚度和圖案。LEYBOLD APS 1104光刻膠系統也提供了特殊的安全措施。該單位的內置安全功能旨在保護人員免受危險化學品和光敏廢物的侵害。它還保護環境免受任何汙染或大量排放。APS 1104 Photoresist Machine認證其環保合規性，使其成為許多工業應用的首選。簡言之，LEYBOLD APS 1104光刻膠工具是市場上最高效可靠的光刻膠處理系統之一。它具有多種特點和功能，是任何光刻加工要求的絕佳選擇。
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