二手 LUNG PIEN LP-1300 EBA #293623142 待售
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ID: 293623142
Coating machine
Diameter size: 1300 mm
Fixture size: 1200 mm
Ultimate vacuum: 10^-7 Torr / 10^-5 Pa
Maximum substrate temperature: 350°C
Cooling water flow: 150 Liters/min
Cooling water temperature: 18°C - 25°C
Standard temperature: 20±1°C
Air compressor: 3HP
Air pressure: 6-8 kg / cm²
Grounding resistance: <5 Ohms
Exhaust system:
Rotary pump: 3000 Liters/min
Strengthen pump: 1,500 m³/hour
Diffusion pump: 45,000 liters/sec
Ultra low temperature freezers: -110°C~ - 140°C
Heating system:
Micro heater: 24 kW
Film thickness gauge:
Optical film thickness meter: 380 mm ~ 1050 mm
Quartz film thickness meter: Monolithic sensor head / six sensing head
Evaporation source:
PLASMATECH Electron gun, 6 kW / 10 kW
Resistance heating: 6 kW
Cooling system:
Pressure: 4 kg/cm²
Pressure: 2 kg/cm²
Power supply: 60 kW.
LUNG PIEN LP-1300 EBA系統是一種用於印刷電路板工業的現代光刻技術。它的設計目的是在傳統方法所需時間的一小部分內,為生產高質量的印刷電路板提供一種高效和經濟高效的設備。在其核心LP-1300，EBA系統利用了通過噴霧沈積過程應用於多氯聯苯表面的液體光阻（LPR）。這種濕抗性與銅表面化學結合，形成一個粘合層，能夠精確放置所需的組件。然後對暴露的銅進行蝕刻和精煉，提供所需的印刷電路板最終結果。LPR可以輕松地混合和去除不需要的材料,從而在其朝著所需形狀的方向工作時提供精確的清潔表面。LUNG PIEN LP-1300 EBA還提供了控制和固化光刻膠層的先進解決方案，提供了對基板的最大附著力。使用先進的紫外線（UV）光源,設備能夠精確快速地將光刻膠設置到位,而無需手動處理電路中的每一塊。此外,LP-1300 EBA還采用了分層抗蝕劑技術,可幫助確保每個構建都具有精確的可重復性和準確性。這臺機器允許用戶生產質量控制極高的高品質電路板，同時降低其他光刻膠處理方法可能發生的損壞和缺陷的風險。最後,LUNG PIEN LP-1300 EBA還配備了集成的清潔工具,可幫助去除殘留在基板上的任何多余的光刻膠材料。這一資產，加上集成的紫外線光源，確保了完美無瑕和高度精確的印刷板。LP-1300 EBA是一種高科技光敏處理模型，旨在使印刷電路板的設計和制造更加簡單和經濟高效。LUNG PIEN LP-1300 EBA使用先進的液體光刻防腐劑和集成的紫外線光源,使用戶能夠以傳統技術的一小部分成本生產出精確度、可重復性和附著力無與倫比的高質量電路板。
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