二手 M-TECH 4300S #293664059 待售

M-TECH 4300S是一種高端光刻設備，特別適用於晶圓尺寸的基板。該系統具有多種特點，能夠滿足現代晶圓制造工藝的苛刻需求。該單元包括一個電阻應用模塊、一個平面化模塊、一個曝光模塊、一個曝光後模塊、一個開發模塊和一個衍生模塊。所有這些模塊都集成在一起，形成一個完整的機器。4300S的抗蝕劑應用模塊用於晶片尺寸基板上的光致抗蝕劑.抗蝕劑被分配到基板上，並用強大的旋轉馬達均勻分布。這確保了抗蝕劑在表面上的均勻覆蓋。通過高精度噴嘴腔分離來保持基板與分配噴嘴之間的阻力控制流動。平面化模塊包含一個精確控制的平面化曲面。此曲面用於精確、精確地平滑由抗蝕劑應用模塊創建的基板的不均勻曲面。光滑的表面對於光刻過程中的接觸光刻和定義特征至關重要。該工具的曝光模塊利用先進的光學器件來確保精確和均勻的曝光。當將圖像傳輸到基板上時，光學器件提供了極好的均勻性和較高的對比度。光學器件配備了自動對焦和圖像識別功能，以確保高精度的精確曝光。資產的後曝光模塊確保了蝕刻基板的統一、準確和完整的蝕刻。這是通過利用先進的曝光後校正算法來實現的，該算法精確控制了掩模的對準、曝光劑量和蝕刻。開發模塊用於從基板上去除暴露的光刻膠。這是使用高級圖像識別算法以高度精度的自動化方式進行的。分拆模塊用於從基板上沖洗掉剩余的光致抗蝕劑。這是通過高速旋轉晶片，並確保最大限度地利用沖洗化學和完全沖洗掉的光致抗蝕劑。總體而言，M-TECH 4300S是一種先進的光刻膠模型，它使用戶能夠在晶圓尺寸的基板上準確可靠地進行光刻工藝。該設備具有多個模塊，可確保均勻的抗蝕性應用、精確的曝光、均勻的蝕刻以及光刻膠的完全沖洗。這使4300S成為現代晶圓制造工藝的理想選擇。