二手 MAXIMUS 804 #9013168 待售
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單擊可縮放
ID: 9013168
優質的: 2010
Resist stripper
Automatic lift-off and cleaning system for 2”, 3”, 4”, and 6" wafer
3-axis robot
Class 1
Flat touch screen monitor
Motor spinning speed 1 – 1000 rpm
Motor acceleration 1-50000 rpm/sec
5 liter waste tank with high-level sensor
Stainless steel tank for hot nmp
Carrier agitation and lifting unit
Media recirculation unit
Cryostat for heating and cooling
Up to 80°c
Lift- off process chamber
Brushless dc motor
Drain filter for lift off processing
High pressure system nmp pressures from approx 10 bar up to 180 bar
Programmable chamber rinse system with nmp
Cleaner module (di- water and ipa rinse)
Fully automatic and programmable cassette-to-cassette cleaning system
CE Marked
De-installed
2010 vintage.
MAXIMUS 804是一種設計用於半導體晶圓制造的光刻設備。利用先進的精密技術,保證樣品加工和分析的質量控制.該系統需要各種先進的流程，以確保可靠的樣本分析。這包括光刻、蝕刻、光刻應用、化學機械平面化（CMP）和沈積。光敏裝置大大降低了半導體晶圓的制造成本，能夠產生更高精度的結果。這是通過使用真空卡盤來有效地保持晶片，並確保晶片與機器內的每個不同元件之間的精確接觸來實現的。其次是光致抗蝕劑的精確應用。光阻劑用於保護晶片不受蝕刻和化學過程的影響，這是半導體制造的組成部分。光刻膠可以通過先進的分光光度計和反射光學工具進行光學曝光，從而確保樣品分析和制造中可重復的圖樣。該資產能夠提供高度精確的結果，因為它利用納米級薄膜和抵抗選擇性地蝕刻晶片上的結構。此外，它使用CMP來保證樣品的均勻性和平面性。在光刻過程中，光刻膠有選擇地以預定的圖樣塗抹在晶片上。然後將晶片暴露在紫外線下,選擇性地對光刻膠進行圖樣繪制。最後，圖案化的光致抗蝕劑可以被蝕刻和去除，留下晶圓與按照設計形成精確的圖樣。804光刻膠模型還包括先進的測試和分析特征。這包括激光幹涉測量、光學散射、邊緣分辨率等先進分析技術。這些特性確保晶片符合半導體制造所需的嚴格標準。總體而言，MAXIMUS 804光阻設備利用先進的技術和精密的工藝技術，提供可靠、經濟高效的半導體晶圓制造。該系統可用於形成具有可重復精度的精確模式，並可用於制造性能可靠、可靠性持久的產品。
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