二手 MICRO PROCESS Avenger Ultra-Pure 8 #9229851 待售

MICRO PROCESS Avenger Ultra-Pure 8
ID: 9229851
晶圓大小: 8"
Spin Rinse Dryer (SRD), 8".
MICRO PROCESS Avenger Ultra-Pure 8是一款最先進的光阻設備,旨在使用戶能夠在半導體晶圓上快速準確地產生復雜的結構。該系統的工作原理是將光敏材料暴露於高能光下,如激光,這會有選擇地改變晶片上的抗蝕性特性。這反過來又允許使用者精確控制基板微電路的模式。該單元由一系列組件組成,包括光束源、掃描頭、控制器、工作臺和曝光室。光束源用於生成指定波長的單色光束。然後通過掃描頭掃描橫跨晶片表面的光束,掃描頭包含將光束聚焦到晶片上的透鏡和鏡子陣列。控制器模塊協調掃描頭的運動,並就光束的確切位置提供反饋。工作臺是放置要陣列的晶片和基材,然後再將它們裝入曝光室的位置。曝光室為曝光提供了受控的環境,可以設置為包括強度、持續時間、溫度和壓力在內的一系列參數。一旦模式完成,晶片通過真空機卸載,數據由控制器處理。總體而言,Avenger Ultra-Pure 8為半導體陣列設計提供了全面的解決方案,簡化了操作並輕松集成到現有系統中。該工具非常精確,分辨率高達10nm,能夠為各種應用提供精確的微型電路。憑借其高精度的功能和直觀的用戶界面,MICRO PROCESS Avenger Ultra-Pure 8是半導體陣列的理想選擇。
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