二手 MITOMO SEMICON ENGINEERING MP-1408T LN #9243731 待售

MITOMO SEMICON ENGINEERING MP-1408T LN是為半導體器件生產帶來高精度和高品質設計的下一代光阻設備。該系統快速準確地創建薄膜層，用作生產高密度器件的光刻膜。MP-1408T LN設計為光刻膠曝光設備的經濟解決方案,可用於生產各種設備結構,如高速DRAM、閃存和3D堆疊芯片。該機采用專門的光學裝置進行像差校正，其圖像分辨率精度為0.25 μ m，最小線寬為0.06 μ m。MITOMO SEMICON ENGINEERING MP-1408T LN利用超細間距非球面透鏡作為其曝光源，能夠在廣泛的波長範圍內為可見光和紫外線提供均勻的輻照。它能夠掃描最大13,000mm/min，允許高速單束生產。此外，這臺光刻機具有0.25至450 μ m的寬曝光範圍和1 μ m/p至0.25 μ m的寬分辨率，以滿足半導體器件生產的各種需求。MP-1408T LN使用自動聚焦工具實現高精度,並使用集成的監控資產密切跟蹤整個操作過程。其先進的舞臺模型能夠分段空氣軸承表運動和頭部定位，允許微調和速度調整而不犧牲分辨率。通過使用隨附的板載預處理軟件，可以輕松實現工藝優化。此外,MITOMO SEMICON ENGINEERING MP-1408T LN設備與其他光刻膠系統相比具有卓越的清潔度,因為其所有組件均按照最高質量標準設計和制造。這確保了半導體生產能夠以最小的碎片完成，減少了設備汙染的機會和可能的生產延誤。總體而言，MP-1408T LN是一種高度先進的光阻系統，旨在為半導體器件的生產提供高精度和精確度。它具有一個光學單元，可以執行像差校正和廣泛的曝光範圍，有一個自動化聚焦機和預處理軟件，用於優化過程。這臺機器還設計了卓越的清潔度，確保生產可以用最小的碎片完成。