二手 MTI CORPORATION MSK-AFA-I #9283974 待售

MTI CORPORATION MSK-AFA-I光致抗蝕劑設備是一種先進高效的系統，旨在擴大半導體工業中光致抗蝕劑工藝的暴露面積。該單元將單個光掩模和光刻室與提供敏捷性、曝光面積和快速周轉時間相結合的先進元件相結合。該機器利用一個集成的全自動級和一個光掩模來曝光光刻膠，與標準光刻膠工具相比，其曝光面積很大。自動化資產包括高速驅動模型、線性運動級、獲得專利的LSS eXP級、集成光學設備以及先進的等離子體增強化學氣相沈積（PECVD）單元。該系統可實現比傳統系統更大的暴露面積,並允許更高的吞吐量。MSK的線性運動級設計為高度通用，融合了變速驅動斜道和快速速度監視單元等元素。這樣就有可能在曝光過程中更嚴格地控制光掩模移動時的加速度，並提供對曝光區域的精確控制，以便在創建復雜的光刻膠圖案時獲得更高的精度。該機器還利用具有多任務目標的Smart EXposure™實現了新的靈活性和速度水平,同時提高了流程的效率。該工具還可以通過減少光掩模的使用量來減少曝光過程的長度，集成的光學資產可以將超過25%的光傳遞到連續波中。MSK-AFA-I模型還具有高達四級加熱能力，允許在曝光過程中精確控制光刻膠的性能。由於獲得了氟化鎂（MgF2）CVD沈積工藝的專利，該設備還提供了高產率，從而顯著提高了光刻膠對紫外線的靈敏度。該系統還配備了獲得專利的SPClean100™裝置，這是一臺獲得專利的清潔機器，它將真空吸塵器和濕蝕清潔工具結合在一起，以排出和清除光掩模中的所有殘留物，為每次曝光提供幹凈可靠的光掩模。最後，MTI CORPORATION MSK-AFA-I資產配備了專有軟件包，允許簡單修改設置、參數編程和自動操作。模型的圖形用戶界面（GUI）也讓操作員對曝光過程有了更直觀的了解，並允許對光掩模進行有效的控制，以實現每次曝光的高質量結果。MSK-AFA-I光致抗蝕劑設備是半導體行業光致抗蝕劑工藝的先進高效工具。它利用集成的自動化組件和軟件來增加接觸面積,並提高靈活性和準確性和一致性。該系統還提供強大的清潔功能以及高產速度,使其成為任何光刻膠生產應用的理想解決方案。