二手 MTS 1913-E01 #9046517 待售

MTS 1913-E01是一種設計用於微電子制造過程的光刻設備。它是一種自旋式光刻膠系統，設計用於塗層工藝，是半導體制造基材制備中最常用的工藝。1913-E01光致抗蝕劑單元由兩個組成部分組成：敏化抗蝕劑，即施加在基板上的光致抗蝕劑；顯影劑，用於去除抗蝕劑的非活性和暴露部分。傳感器抗蝕劑是一種水溶性液體配制的產品，含有在塗抹時在基板上提供薄膜堆積的組件。它與特定波長的紫外線發生化學反應。在暴露於紫外線後，基板再使用顯影劑溶液開發。顯影劑溶液中含有反應性化合物，當活化時，只會蝕刻掉暴露的光致抗蝕劑材料，從而在底物上產生蝕刻的圖樣。MTS 1913-E01光致抗蝕劑機經過大量的測試和應用在各種微電子過程中。它是一款高性能的工具,具有出色的分辨率和出色的邊緣清晰度。它還提供了異常均勻性的抗蝕劑殘留，並且可以精確控制，以達到精確的層和特征尺寸。該工藝為微電子制造提供了一種高可靠性、高成本效益的光刻材料。該模型易於使用,需要最少的操作員培訓,並且無需手動預處理。它還具有極好的保質期穩定性，存放在清潔涼爽的環境中。此外，它的高溶劑電阻使其能抵抗侵略性有機溶劑、酸和堿。總之，1913-E01光致抗蝕劑設備是制造半導體和微電子器件的理想選擇，在分辨率、邊緣定義、層均勻性、成本效益和與腐蝕性溶劑的兼容性等方面均取得了優異的效果。