二手 NANO OPTICS HAZE 2 #293589807 待售

製造商
NANO OPTICS
模型
HAZE 2
ID: 293589807
晶圓大小: 12"
Lithography system, 12".
NANO OPTICS HAZE 2是一款由工業材料巨頭霍尼韋爾開發的光刻設備。該系統被設計為一種易於使用的薄膜沈積、光刻和其他相關應用的光掩模工藝。該裝置采用獨特的依賴波長的聚氨酯霧霾濾波器,可在廣泛的波長和強度範圍內提供一致的光照水平。HAZE 2機由聚氨酯煙霧過濾器、電源和曝光控制單元三部分組成。霧霾濾光片是吸收光源發出的紫外線輻射,降低曝光強度的東西。這種濾波器傾向於在廣泛的紫外線波長範圍內保持均勻的強度,這對於一致的薄膜沈積是必不可少的。電源為曝光控制單元和霧霾過濾器提供所需電源。最後,曝光控制單元由具有圖形用戶界面的微處理器組成,允許用戶即時調整曝光設置。NANO OPTICS HAZE 2工具的另一個主要特點是防汙染設計。該資產由基座、平臺和模塊化引擎蓋構成,這些引擎蓋在密封環境中包含所有模型組件。這種防汙染設計有助於確保灰塵、灰塵或其他汙染物不會被霧霾過濾器捕獲並進入正在處理的基板。整個設備的設計使得光掩碼處理過程更容易、更快,因此薄膜沈積可以在較傳統的光掩碼處理過程所需時間的一小部分內完成。此外,HAZE 2系統提供的一致曝光可確保薄膜沈積厚度一致,並提高產量和吞吐量。總之,NANO OPTICS HAZE 2光刻裝置是快速、準確地進行各種光刻和薄膜沈積過程的有效工具。機器的緊湊設計和防汙染功能使其成為那些尋求可靠、高效和經濟高效的方法來執行這些過程並取得一致結果的人的理想選擇。
還沒有評論