二手 NEC FC-9821Ka #293663397 待售

NEC FC-9821Ka是NEC開發的光刻設備，用於各種薄膜沈積和蝕刻應用。該系統可處理各種基板,並提供高達10nm的無與倫比的特征分辨率。該裝置利用最新的LCOS（Liquid Crystal on Silicon）技術，以無與倫比的方式聚焦光刻膠。FC-9821Ka機器包括最新的晶圓檢測技術，用於特征的精確表征。此工具專為高級圖樣化應用而設計,如挖溝、填充、亞微米設計特征蝕刻和側壁沈積。曝光過程是基於光刻過程。利用先進的基於LCOS的標線控制資產和激光控制對準對準（FLA）模型，該設備可以提供無與倫比的分辨率。該系統使用的光刻膠具有高純度，可以圖樣化到150 nm。NEC FC-9821Ka還配備了等離子體聚焦離子束（PFIB）單元，用於薄膜材料的蝕刻和幹燥沈積。氦輝光放電源具有良好的等離子體蝕刻選擇性，運行成本相對較低。PFIB機還采用超高亮度來處理精細的遮罩層，用於先進的光刻。FC-9821Ka中包含的塗料-顯影劑單元包含化學和自旋塗層功能,提供從基本情況到超復雜情況的各種光致抗蝕劑應用。綜合曝光後烘烤工藝確保了準確和可重復的晶圓加工結果。為了最大限度地提高正常運行時間,該工具配備了打印和開發購物車。它是遙控的，無需人工幹預即可鍛煉機器的所有特性。診斷有助於識別難以處理的晶片或玻璃片。它還使流程優化能夠實現更高的可重復性和準確性。總之,NEC FC-9821Ka是一種用途廣泛、功能強大的光刻材料,具有優異的性能和可靠性.憑借其先進的技術和對參數的深度控制，該模型可用於各種薄膜沈積和蝕刻應用。該設備提供高水平的精確度和可重復性，同時由於其集成的PFIB和塗料開發系統，也將運營成本降至最低。