二手 NTACT / GS GLOVEBOX nRad #293725233 待售

ID: 293725233
晶圓大小: 6"-8"
Die coater, 6"-8" Glove box Substrate size: 210mm x 300mm Coating thickness range (Dry): 20 nm - 100 µm Coating uniformity: ±3% - ±5% Leading / Trailing edge effect: 5 mm - 10 mm Coating material viscosity: 1 cP - 70 cP Range: Up to 5000 cP with high viscosity pump System fill volume: As low under 10ml Substrate type: Glass, Plastic, Metal foils, Silicon wafers, Rigid / Flexible Substrate thickness: Rigid: 0.5 mm - 6 mm Flexible: > 100 µm M-LINE (2) Filters Activated carbon filter.
NTACT/GS GLOVEBOX nRad是為先進半導體制造工藝而設計的最先進的光刻設備。該系統結合了尖端技術,對光刻膠的應用、曝光和開發提供精確控制,確保了半導體器件制造的高質量成果。該裝置配有手套箱設計,以維持一個沒有汙染物的受控環境,使光敏材料能夠可靠和可重復的處理。NTACT nRad機器具有一種專門的輻射源,用於精確、均勻地曝光光敏塗層。輻射源被設計成以高強度傳遞特定波長的光,允許在半導體基板上精確圖樣化光刻石層。這種能力對於定義半導體器件表面的復雜模式和結構至關重要,例如集成電路和微機電系統。該工具還包括一個復雜的控制界面,使用戶能夠微調曝光參數,如光線強度、曝光時間和圖案大小。這種控制水平對於優化光刻膠工藝和實現所需的半導體制造分辨率和模式保真度至關重要。此外,資產還配備了先進的監測和反饋機制,以確保性能一致,最大限度地減少光刻膠制圖過程中的可變性。GS GLOVEBOX nRad模型的主要特點之一是它能夠在手套箱環境中運行。手套箱設計提供了密封和受控的大氣,保護敏感的光刻膠材料不受汙染物的影響,如水分、灰塵和空氣中的顆粒。這對於在加工過程中保持光刻膠層的質量和完整性至關重要,這對於實現半導體制造的高產率和可靠性至關重要。NRad設備還配備了先進的安全功能,以保護操作員,防止操作過程中發生事故。這包括聯鎖、安全傳感器和緊急關閉機制,以確保危險材料和輻射源的安全處理。此外,系統還考慮了人體工程學因素,以提高用戶在長時間重復處理任務中的舒適度和工作效率。在性能方面,NTACT/GS GLOVEBOX nRad單元提供了光刻膠加工的高吞吐量和效率,使其適合於半導體器件的批量生產。該機的設計滿足了半導體工業的苛刻要求,包括高分辨率、均勻性和光刻膠圖樣的可重復性。通過利用先進的技術和創新的設計功能,NTACT nRad工具可幫助半導體制造商在制造過程中實現卓越的質量和性能。總體而言,GS GLOVEBOX nRad資產代表了半導體制造中最先進的光刻膠加工解決方案。憑借其先進的技術、精確的控制和可靠的性能,該模型使半導體制造商能夠滿足對高性能和高密度半導體器件不斷增長的需求。nRad設備作為半導體制造過程中的關鍵部件,在推動創新和推進半導體技術能力方面起著關鍵作用。
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