二手 NTACT nRad 2 #293736651 待售
網址複製成功！
單擊可縮放
ID: 293736651
Die coater, 12"
Uniformity: ±3%
Maximum coating speed: 100 mm/s
Coating thickness: 20nm - 100µm (dry)
Fluid viscosity: 1cps - 60cps
Manual substrate handling
UL and CE Compliant
Compressed gas supply: 100psi
Vacuum: 25 in HG
Power supply: 15 A, 120 VAC, 50-60 Hz, 1 Phase, 3 wire.
NTACT nRad 2是一款先進的光阻設備，專門設計用於半導體制造、平板顯示器生產和其他微電子行業的高分辨率圖樣和成像應用。該系統具有廣泛的特性和功能,非常適合用於生產復雜的集成電路、傳感器和微機電系統（MEMS）。NTACT NRAD2光刻單元的一個關鍵特點是其高精度和重復性，這對於實現半導體光刻所需的模式保真度和分辨率至關重要。該機配備了先進的光學對準和聚焦能力，允許光刻膠層與底層進行精確對準。這樣可以確保以高分辨率和保真度將刀具創建的圖樣精確傳輸到基板上。NRad 2資產還提供了廣泛的曝光選項，包括UV、深層UV和電子束光刻，允許用戶根據自己的具體應用要求選擇最合適的曝光方式。該模型能夠處理各種光致抗蝕劑材料，包括正負色調抗蝕劑，以及化學放大抗蝕劑，為用戶選擇最適合其工藝需要的抗蝕劑提供了靈活性。除了其高精度和靈活性之外，NRAD2光刻設備還提供高吞吐量的能力，允許對大面積基板進行快速的圖樣化和成像。該系統配備了高速級和機器人處理能力，能夠在一次運行中高效處理多個晶片。這種高通量能力對於滿足大容量半導體制造和其他微電子應用的生產需求至關重要。NTACT nRad 2單元的另一個主要優點是其先進的工藝控制和監控功能,使用戶能夠優化和微調其光刻工藝,以獲得最佳效果。機器配備了實時監控工具，使用戶能夠跟蹤曝光劑量、聚焦、對準精度等關鍵工藝參數，使他們能夠快速調整以優化其光刻工藝，並確保一致的圖樣效果。總體而言，NTACT NRAD2光阻工具是在半導體制造和其他微電子應用中用於高分辨率圖樣和成像的強大而通用的工具。憑借其先進的精度、靈活性、高吞吐量能力和先進的工藝控制功能，這一資產是希望在其先進微電子設備中實現高質量圖樣化結果的研究人員和制造商的理想選擇。
還沒有評論