二手 NTACT nRad #293813619 待售

NTACT nRad是設計用於先進光刻工藝的光刻設備。光致抗蝕劑是用來在光掩模、晶片和其他基材上創建圖樣的化學品。NRad系統是一種基於幹涉幹涉儀的亞波長成像技術。利用這一單元，可以為各種半導體制造創造出納米大小的特征。NTACT nRad機利用一束相幹、相當單色的光束在基板上繪制設計。這種光是由光子組成，每個光子都攜帶一定的能量。光子與通常由聚合物和其他光致抗蝕劑化合物組成的抗蝕劑材料相互作用，影響材料的化學成分。隨著光強度的變化，每個光子攜帶的能量量發生變化，改變了光刻膠的化學性質。這樣就可以以高達幾百納米的分辨率產生極其精確和詳細的圖案。利用這種精度水平，nRad工具可用於制造具有晶體管等電路元件等微小特性的復雜半導體器件。資產的精確度也歸功於它使用了兩束幹涉幹涉儀。這種類型的幹涉儀利用一個「雙射」將一束光束分成兩束光束，兩束光束之間的相位差可調節。相位差可以精確調整，在基板上創建一個特定的模式。NTACT nRad模型也非常適合與電子束光刻、離子束寫入和極紫外光刻等其他制造技術一起使用。這些技術的組合可用於創建現代設備制造所需的納米級特征的復雜模式。總體而言,nRad設備是用於高級光刻和制造過程的強大工具。該系統利用雙束幹涉幹涉儀在基板上產生納米級特征，具有極精確、無破壞性的圖樣。因此，它是當前光刻範式中的關鍵組成部分，在業界備受追捧。