二手 NTACT nRad #9410379 待售
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單擊可縮放
NTACT nRad是由NTACT Corporation開發的光刻膠設備。這種先進的光刻系統在性能、均勻性和兼容性方面提供了卓越的功能。它非常適合制造先進的半導體元件、生物醫學產品和MEMS（微機電系統）。簡單地說，nRad光抗蝕劑單元使用感光液體層來創建圖樣化的表面。液體層暴露於特定波長的光後，可以開發出暴露層，作為金屬層的絕緣層。裸露層在頂部顯示圖案化層。NTACT nRad機器采用獨特的懸掛設計，具有先進的混合能力，這使得它非常適合大規模生產過程。還可以根據特定的應用程序要求對懸掛進行非常精細的調整,以滿足客戶的需求。該工具還提供了納米級特征尺寸的精細控制。高級混合功能和復雜的結構可以根據所需的特征大小進行高度縮放。這允許精確調整特征大小。除了標準的光致抗蝕劑外，該資產還能夠與SU8和ECP（電化學聚合）等先進的抗蝕劑化學物質一起使用。它還提供了與先進技術如離子束蝕刻和激光加工的極好的兼容性。該型號在均勻性和分辨率方面也提供了出色的性能。NRad設備的最小特征尺寸為0.6微米，線寬可調性為0.1微米，均勻性為+/-0.005微米。NTACT nRad光刻膠系統效率高,以合理的成本提供優異的性能.這種先進的光致抗蝕劑單元可用於制造半導體基板、生物醫藥產品和MEMS元件，精度和效率都非常出色。
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