二手 OHMIYA CORPORATIONOKH 640SAF #9203891 待售

OHMIYA CORPORATIONOKH 640SAF是一種高性能光刻設備,旨在為微電子和半導體器件制造提供卓越的生產率、準確性和可重復性。該系統采用先進技術，在矽晶片等基板上和設備制造中使用的其他基板上精確繪制光刻膠圖樣。該單元由一個掃描儀級組成，該級定位和定向基板以獲得最佳圖樣。它配備了超高分辨率、數字成像機、精密的激光基選擇性曝光工具，以及高精度、低速的光學資產，用於一致、精確的攝影曝光。該模型還包括一個用於自動樣本分析的多區域計量設備。該系統利用高分辨率透明的光片，它暴露於紫外線（UV）激光束。然後透明的薄膜在樣品上移動並暴露於額外的激光能量。即使在高光刻分辨率（450 nm）的情況下，透明光圈和紫外線激光束的結合也能準確地定義細粒度特征。640SAF還采用了復雜的圖像處理算法，用於將陣列化設備精確地與基板對齊。此外，它能夠就成像過程的統一性和可重復性向用戶提供準確的反饋，從而有助於確保一致、高質量的結果。此外，OHMIYA CORPORATIONOKH 640SAF為各種類型的半導體器件提供了容納多種基板尺寸的靈活性。此外，它的可調蒙版打開技術使用戶能夠輕松地從一次曝光切換到多次曝光模式。這樣，用戶可以快速調整單位，以適應不同的產品要求。總體而言，640SAF是一臺可靠、用途廣泛的光刻機，為各種微電子和半導體器件制造工藝提供了最佳的生產率、準確性和可重復性。它的多種操作模式使用戶能夠在不同的生產技術之間快速切換,從而實現了廣泛的設備設計復雜性級別。此外，該工具的精密算法使設備設計能夠快速準確地與基板對齊，從而提供高質量的微電子產品。