二手 OPTORUN GENER-1300 #293615983 待售
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ID: 293615983
優質的: 2008
Vacuum coater
Chamber: φ1300 mm x 1500 mm
Dome: φ1200 mm (Spherical)
Low energy DC ion source (For plastic lenses)
EDWARDS E2M285 Pump, 2010 vintage
HELIX / POLYCOLD PFC-1000HC Chiller
Exhaust system:
E2M275 + EH1200 Lu Type, 2010 vintage
DP + POLYCOLD, 28"
Evaporator:
JEOL JST-10F E-beam power supply, 10kW
(2) Thermal resistance boats
Film thickness control:
Optical monitoring
6-Points quartz monitoring
2008 vintage.
OPTORUN GENER-1300是一種光阻設備，用於制造微電路、半導體、MEMS器件以及電子和半導體行業中使用的其他組件。它利用先進的紫外線，包括紫外線激光器，將光敏抗蝕層暴露在基板上。然後使用此抗蝕劑定義基板表面的電路模式和布局。OPTORUN GENER 1300光抗蝕劑系統可以將抗蝕劑暴露在波長為190-365 nm的光下。光照強度和持續時間用高精度定時機構控制。該單元分為四個主要組件,每個組件在過程中執行特定任務。第一個部件是光刻機，負責將抗蝕劑表面暴露在紫外線下。光頭包含聚焦並指向基板表面的激光器。這種激光器在預編程路徑中沿著基板表面移動，可以調整以暴露不同強度和位置的不同區域。第二個組件是對齊階段，它有助於使基板進入光刻機的適當位置，以及對齊表面以進行適當的曝光。對齊階段可以在三個軸上進行調整，可以編程來執行各種操作。第三個組成部分是化學管理機器。該組件負責控制預烤過程、開發過程和基材的後處理。預烘烤階段包括軟烘烤、耐塗層、硬烘烤、預蝕刻和後蝕刻。開發過程涉及抗蝕劑的後處理，包括強調溶劑和顯影劑的選擇、溫度、時間和濃度。第四個部件是履帶工具，負責將基板裝卸進出機器，以及記錄暴露和發達基板的信息。除四大部件外，GENER-1300光刻資產還配備了多項安全功能，包括光學安全罩。這種安全屏蔽保護操作員免受模型發出的任何紫外線輻射，並為潛在的眼部傷害提供保護。設備還配備了溫度控制系統，以確保機器中的溫度在整個操作過程中保持在給定的範圍內。總體而言，GENER 1300光刻裝置是一個先進的機器，設計制造電子元件的精度和精確度。高度受控的環境和可編程功能允許快速高效地制造電路模式和布局。安全功能確保工具安全、負責任地操作。
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