二手 OPTORUN OTFC-1300 #9190582 待售
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已售出
ID: 9190582
優質的: 2005
IAD Optical thin film coaters
High resolution optical monitor:
HOM1-1
OPTORUN OTM
Wavelength range: 1100nm - 1700nm
Wavelength resolution: 00.8nm
Light value resolution: 0.001%
Light source: Halogen lamp
Power requirements: AC100V ± 10% 50/50Hz
Power consumption: 600VA
Light sensitivity: ± 0.01 (Narrow band pass filter)
Optical system and low noise: ± 0.01%
Shutters:
(2) EB
ION
EB Sources:
L Loop hearth changed to hearth liner
R 24 Points hearth
(2) Plasma tech EB source 270° deflection systems
(2) Monitoring cameras for hearth
Pumping systems:
Qty / Make / Model / Description
(1) / EDWARDS / E2M275+MBP EH1200 X / Mechanical pump
(2) / SHIBAURA / - / Diffusion pumps, 22”
Cold traps:
Make / Model / Description
POLYCOLD / PFC660 / Meissner trap coil
AISIN / - / Super trap cold baffle plate on the DP
Substrate fixture:
Variable speed dome
Hand lifter for mounting substrates
OPTORUN OIS RF Ion source system 170mm diameter
Thickness monitor: INFICON IC5
Vacuum gauge: INFICON VGC023
Process gasses controller: INFICON VCC500
(2) E-Guns
Control:
PC
PLC
Spare shield plates
2005 vintage.
OPTORUN OTFC-1300光阻設備為用戶提供了一種可靠、高效的膠片和晶片處理手段。使用這種光致抗蝕劑系統，基板材料可以暴露於由計算機輔助設計（CAD）單元確定的特定圖樣中。該機有望成為微電子光刻精密精密的理想工具。OPTORUN 1300特別利用光刻技術在基材上創建所需的圖樣。光刻涉及一種材料暴露在光線中，這種光線以某種方式改變了材料的特性。OTFC 1300光抗蝕劑投影工具利用帶遮罩級和照明資產的真空室優化了這一過程。遮罩舞臺是放置CAD設計的光掩模的地方，照明模型由帶有輸出透鏡設備的光源組成。光輸出透鏡系統改變來自光源的光束，光掩模的圖樣影響光如何沖擊基材。OPTORUN OTFC 1300有幾個高級功能。它配備了一個真空裝置，可以快速調整環境變化，防止壓力的快速變化帶來任何潛在的破壞影響。機器還采用冷卻工具，以防止光源過熱，並確保一致和精確的性能。1300具有高濃度增益特性,允許以最小損耗增加光束密度。最後,此光刻膠資產提供自動對齊技術,確保每一層始終正確對齊。總體而言，OTFC-1300光刻膠模型是在基材上創建復雜和精確圖樣的有力工具。它針對精確度、效率和可靠性進行了優化，非常適合那些希望在微電子光刻行業中完成各種任務的人。
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