二手 OPTORUN OTFC-1300DBI #9398672 待售
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ID: 9398672
優質的: 2008
Optical thin film coater
SUS304 Vacuum chamber: D 1300 mm x H 1610 mm
Substrate dome size: D1130 mm
Pump:
Mechanical pump: 4000L /min
Mechanical booster pump
(2) Diffusion pumps, 22"
Optical film thickness control system:
OPTORUN HOM2-R-VIS350A
Wavelength range: 350 nm - 1100 nm
Shutters:
(2) EB Sources
ION Source
Cold trap: POLYCOLD PFC670HC Meissner trap coil
INFICON VGC023 Vacuum gage
EB Source:
Left: Loop hearth
Right: 24 Points hearth
JEOL 270 Degrees deflection system
(2) JEBG EBG-203LFO
JST-10F Power supply
Substrate fixture: 10-50 RPM Variable speed dome
INFICON XTC-2 Crystal film thickness monitor
6-Points rotary crystal sensor
INFICON VCC500 Process gasses controller
INFICON VDM005-X Controlled valve
PLC Control
PC Included
2008 vintage.
OPTO-RUN OPTORUN OTFC-1300DBI光刻設備是一種用途廣泛的光化學系統,專為蝕刻、濺射和層沈積等應用而設計。它可實現多達四個掩模的精確、同時曝光,而不會犧牲吞吐量。具有靈活的光發動機和多種工藝選擇，這種光刻膠單元提供精確的光刻膠曝光具有均勻性和可重復性。OPTO-RUN OTFC-1300DBI光刻機由曝光室、光引擎和控制器組成。曝光室采用多腔工具，最多可同時容納四個口罩。輕型發動機由圍繞口罩布置的熒光燈環構成，按需提供高強度的紫外線。這種工程光源是可調的，允許劑量、曝光時間和曝光功率為每個面罩獨立調整。除了曝光室和光發動機外，OPTO-RUN OPTORUN OTFC-1300DBI光刻膠資產還包含了精確的數字顯示控制器。這使用戶能夠自定義模型的曝光設置，並允許精確控制曝光參數。而且控制器具有強大的光電界面，允許用戶從外部計算機控制整個設備。OPTO-RUN OTFC-1300DBI光刻系統非常適合許多不同類型的微電子生產，包括集成電路（IC）、平板顯示器和印刷電路板。其精確的曝光能力使其特別適合於先進的半導體應用，例如制造異構翻轉芯片封裝和MEMS器件。該設備的靈活性和易於使用的界面使其成為質量控制和一般潔凈室操作的一個有吸引力的選擇。總而言之，OPTO-RUN OPTORUN OTFC-1300DBI光刻機為微電子生產中的精確光刻曝光提供了高效的解決方案。它是一個通用的解決方案,可輕松適應任何生產環境,其精確的數字控制使其成為質量控制和專業應用的寶貴工具。
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