二手 OPTORUN RPD-1000 #293663492 待售
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單擊可縮放
ID: 293663492
優質的: 2015
Reactive Plasma Deposition (RPD) system
Process: ITO
Chamber size: 1000 mm × 1165 mm
Substrate dome: φ 870 mm
Maximum dome rotation speed: 10-30 RPM
6 Point rotary crystal sensor
Reactive plasma ion source
2015 vintage.
OPTORUN RPD-1000是專門為研發實驗室設計的通用、用戶友好的光阻設備。該系統配有集成的激光二極管和控制器,使實驗樣品能夠在最短的處理時間內快速準確地曝光。該單元還包含一個軌道控制模塊,負責控制樣品級的運動。整個機器包含在一個可以安裝和使用的單元中。RPD-1000是一種緊湊的工具,可以配置為垂直或水平方向。激光二極管是一種垂直腔面發射激光器,與傳統的激光二極管相比,具有較高的曝光性能。激光源與具有可選視頻成像功能的板載光掩碼程序員耦合。資產的集成無刷電機控制器提供卓越的速度控制和精度,實現精確和可調的曝光間隔。OPTORUN RPD-1000配備了易於使用的觸摸屏界面,可以讓用戶快速設置和配置模型。提供了幾種預設曝光配置文件,使用戶可以輕松地在不同的樣品材料之間進行切換。此功能還使設備能夠快速召回存儲的曝光數據,從而加快處理時間。此外,還可以使用自動校準選項配置系統,以確保在多個運行過程中保持一致的曝光。該設備具有先進的傳感和控制功能,可輕松集成到現有或定制的設備設置中。該機按照CE和UL安全標準建造,與多種工業級電源兼容。該產品提供為期一年的有限制造商保修,並提供終身技術支持。總體而言,RPD-1000對於需要價格合理的高精度光刻工具的人來說是一個絕佳的選擇。該資產用途廣泛,適用於實驗室和工業應用。它提供了靈活性和廣泛的應用,使其成為開發和完善研發項目的理想選擇。其用戶友好的設計使其易於使用,並確保每次都能持續保持出色的曝光效果。
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