二手 OWENS DESIGN Gen 2 #9234061 待售

製造商
OWENS DESIGN
模型
Gen 2
ID: 9234061
Nanoimprint lithography / Coating system.
OWENS DESIGN GEN 2光刻設備是為自動化光刻工藝的設備和工藝而設計的經濟高效且先進的系統。它是一個先進的光刻單元,設計與最新的技術進步。該機由高精度多軸工具、數字投影資產、強大的軟件工具和高分辨率投影儀組成。此模型提供高分辨率的圖像和可重復性、卓越的準確性以及直觀的用戶界面。多軸設備利用先進的線性和角度編碼器提供精確的定位和運動控制。這使得系統可以在單元的三維空間內,將掩模、晶圓和投影儀精確地一起或獨立移動。數字投影機用於將光刻圖樣傳輸到掩模或晶片上。投影儀能夠提供分辨率高達2560 x 1920像素的銳利圖像。它采用三透鏡光學工具,提供高強度照明,消除蒙版或晶片上的莫爾圖案。功能強大的軟件工具易於使用,可以完全控制資產的設置。這些工具包括用於精確對齊和聚焦掩模或晶片的對齊工具。此外,還包括矢量化、補償數據輸入、復雜的光刻模式等一系列其他功能。Gen 2光刻膠模型為快速、高效、精確的圖樣設計。設備提供了無與倫比的質量、準確性和可重復性。它專為靈活和自動化的過程而設計,為生產和原型設計提供了經濟高效的解決方案。
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