二手PURE AIRE(光阻劑)待售

「PURE AIRE」制造商提供的光阻設備是半導體和微電子行業的尖端解決方案。它們提供了廣泛的類似物,旨在滿足各種應用程序要求並提供卓越的性能。「PURE AIRE」光刻膠系統的優點在於其高分辨率能力、出色的附著性能和卓越的耐化學性。這些單元可實現精確的陣列,並允許制造復雜的微結構。它們非常適合先進的光刻工藝，如深層紫外線和電子束光刻。UF72AE了一個來自「PURE AIRE」的光刻膠系統實例。它是一款具有優異分辨率能力的正光抗蝕劑，提供亞微米特征尺寸。UF72AE具有很高的靈敏度，允許快速處理時間。該系統改進了對各種基板的附著力，使其適用於廣泛的應用，包括IC制造和MEMS制造。另一個例子是'PURE AIRE'負光刻膠系統，提供高對比度和分辨率。它非常適合需要制造高長寬比結構的應用，如微流體器件和光學元件。總體而言，「PURE AIRE」光刻機以其先進的性能著稱，使其成為要求苛刻的微電子應用的首選。