二手 PVA 2000 #9293852 待售

PVA 2000是專為高通量光刻應用而設計的光刻設備。它是一種改進的光刻膠系統，提供了一種比傳統光刻膠材料更可靠和一致的替代品。2000年的光刻工藝涉及使用光刻膠材料將圖樣轉移到基材上。然後使用光致抗蝕劑在基板上創建一個微觀特征模式。PVA 2000含有專有添加劑，旨在促進化學穩定性，減少光致抗蝕劑失效的可能性。通過消除可能對圖樣形成精度產生不利影響的殘留物，提高了光刻工藝的效率。該單元強大的配方還提供了更多層次的保護,並增強了整個過程。2000年已制定為微觀特征提供出色的分辨率。它非常適合各種底物，包括金屬、聚合物和半導體。它在非常小的特征的光刻中特別有益，例如微電子所需的特征。光刻膠還具有較低的（光）溶解速率，能夠對寬度較小的特征進行可靠的光刻。在吞吐量方面,PVA 2000旨在提供一致且可重復的過程,與其他光刻膠系統相比,吞吐量提高了3倍。這種提高的生產率使流程能夠在一半的時間內完成,從而使其更快、更高效。2000機器的設計也考慮到了安全和環境要求。它是通過無害環境的工藝生產的，含有低揮發性有機汙染物，沒有HAP。此外，該工具與目前光刻的安全程序高度兼容，使其成為更敏感環境下的理想選擇。總體而言，PVA 2000光刻材料為光刻提供了可靠和精確的工具。它提供了改進的過程可重復性、更高的吞吐量速率、增強的環境安全性以及改進的微觀特征分辨率。這使得它成為精確的模式傳遞和微觀特征制造的理想選擇。