二手 PVA 6000 #9222892 待售

PVA 6000是佳能公司開發的一種光刻膠設備，用於創建分辨率極高的特征。它設計用於半導體晶片，是佳能在其超精密的抗蝕劑產品系列中開發的最先進的光致抗蝕劑。6000的主要特點是其High-NA HDR成像、緊湊曝光單元和佳能專有的ARTechnicaG系統。High-NA HDR （High Numerical Aperture High Depth Resolution, High Numerical Aperture HDR）成像技術確保了在旋轉塗層、成像和蝕刻方面具有卓越一致性的極細特征的產生。緊湊的曝光單元可在清潔環境中提供出色的性能,並縮短曝光時間。ARTechnicaG單元通過簡單界面控制的易於預先設計的曝光形狀生成多種復雜模式。該機結合了佳能曝光單元和光刻工具的原生分辨率，具有40納米子圖樣能力。PVA 6000在制作光掩模時允許了很大程度的靈活性。有了在次分辨率級別控制曝光區域的能力，既可以創建高精度的大型模式，也可以創建極高分辨率的密集模式。資產還為用戶提供了廣泛的曝光設置，可以針對各種各樣的條件和材料進行定制。6000的全自動拒絕識別功能也更進一步。此函數可以檢測缺陷模式並自動拒絕,從而減少錯誤並提高制造產量。總體而言,PVA 6000是一個顯著的光敏模型.其令人印象深刻的特性清單，加上佳能在質量方面的長期聲譽，使其成為半導體晶圓特性生產的絕佳選擇。