二手 PVA 6000 #9241942 待售

PVA 6000是微電子工業中為高精度光刻設計的光刻設備。這是一種水溶性的，兩部分，novolac為基礎的光致抗蝕劑具有良好的附著力和靈敏度輪廓。其優越的性能和較長的保質期使得它成為制造半導體器件的首選。6000由一種主樹脂和一組引發劑組成。這種resin¬†contains的新乳酸基丙烯酸酯聚合物，在暴露過程中能使強粘附抵抗。引發劑是光敏分子，吸收紫外線的能量，引起化學反應，使薄膜解聚。這種反應反過來在抗藥劑上建立了一個正音圖像。PVA 6000系統設計用於廣泛的集成電路（IC）光刻應用。它1.6 µm的厚度使得它適合亞微米成像，允許更精細的圖案和更高的分辨率。該裝置還具有對各種基板的出色附著力，從矽到介電層不等。此外，由於其化學成分和暴露條件的結合，其優越的敏感性可實現頂部均勻性和分辨率。6000還提供了較長的保質期,確保了高生產率和一致的性能。其低放氣率也消除了沖洗以去除不需要的表面汙染的需要。PVA 6000結合其防反射塗層和低摩擦性能，保證了卓越的圖像質量和可重復性。總體而言，6000機是生產高精度微電子器件的絕佳選擇。它可確保高分辨率、清潔、低缺陷的圖像具有出色的均勻性。其保質期長，放氣率低，使其具有很高的可靠性，而其優越的附著力與多種基材的結合，則可用於多種用途的應用。