二手 PVA TEPLA 650 #9261168 待售

PVA TEPLA 650是一種針對先進半導體應用而設計的創新光刻膠系統。它是一個單組分，預混合，高對比度的光刻膠是自旋塗覆在矽片或其他基板上。該抗蝕劑提供了一層底部防反射塗層（BARC）,快速可靠地實現了較小特征的圖樣化,分辨率更高。抗蝕劑由聚乙烯醇（PVA）組成，其中含有表面活性劑和催化劑的特殊混合物，旨在優化粘附和蝕刻特性。光致抗蝕劑系統具有高分辨率的性能，並預混合了最佳濃度的聚乙烯醇，使自旋塗層具有一致性和可重復性。對抗蝕劑的蝕刻特性進行了優化，使其能夠在光刻過程中獲得最大的收率，從而能夠將高保真度的圖樣轉移到晶片上。650抵抗提供了若幹性能優勢。它具有厚厚的光致抗蝕劑薄膜，比大多數標準的正負抗蝕劑更堅固。抗蝕劑的熱保質期也優越，使其在高溫下能長時間保持穩定。它非常適合幹蝕刻工藝，並且比具有類似BARC性能的其他標準光蝕劑具有更高的蝕刻阻力。此外，PVA TEPLA 650光抗蝕劑也被設計為與各種工藝兼容。它經過了測試，以確保與不同的抗蝕劑工藝，如深紫外線（DUV）和極紫外線（EUV）光刻有廣泛的兼容性。也可用於多種蝕刻工藝，包括深蝕刻、深反應性離子蝕刻、等離子體蝕刻和深濕蝕刻。650光刻膠是半導體工業的先進解決方案，提供快速、可靠和精確的小特征圖樣。它與各種芯片制造工藝具有廣泛的兼容性,並提供卓越的性能優勢,如延長熱保質期以及改進的蝕刻和粘附特性。對於需要可靠工具在小特征尺寸上創建高精度陣列的用戶來說,抵抗系統是理想的選擇。