二手 RESEARCH INSTITUTE OF CETC BG-401A #293643207 待售

CETC BG-401A研究所是一種高度先進的光阻設備，其設計目的是能夠將圖樣精確地轉移到半導體和玻璃基板上。光致抗蝕劑是一種光敏材料，用於在諸如集成電路等蝕刻設備中制作高精度圖樣。它通過在暴露於光線下產生化學反應而起作用。BG-401A以高度的分辨率和精確度，簡化了一系列材料的光刻膠工藝，例如散射、矽和聚酰亞胺。該系統針對圖樣成像中具有高通量的緊密公差成像進行了優化.它配備了兩個平行的激光束掃描頭，每一個都提供了連續的激光能量波，允許大的掃描區域被快速處理。內置的圖像處理軟件執行高級圖像處理,以確保將圖樣精確地傳輸到基板上,從而實現高產率,並最大限度地減少返工和報廢。CETC BG-401A研究所還解決了等離子體放電問題，這是光刻系統中常見的一個問題，可能導致蝕刻不一致和不規則性。其獨特的氣體動力聚焦單元通過確保激光光束每次到達抗蝕劑中的精確點來抑制等離子體放電。比傳統的光掩模更高效、更簡單，BG-401A是一種強大的替代模式抗蝕劑。其耐弧側壁確保殘留物更加均勻，確保更可靠和可重復的設備性能。其熱力學特性，如高溫能力，確保加熱的抗蝕劑在成像過程中行為可預測，每次都提供一致的結果。垂直和水平可調平臺提供了進一步的靈活性，允許各種尺寸和形狀的基板進行精密處理。該機還配備了可視化操作接口和多層快速交換功能。此函數會自動快速地選擇相同材料的層,從而無需每次手動設置模式。總體而言，CETC BG-401A研究所是一種先進、先進的光致抗蝕劑工具，旨在使制圖過程更容易、更快、更可靠。憑借其先進的功能,它提供了一個簡化且經濟高效的解決方案,用於在需要更改模式的設備中制造高精度陣列。它非常適合任何需要生成復雜、準確和可靠模式的應用程序。