二手 RHETECH STI 280 #17375 待售

RHETECH STI 280是由RHETECH Technologies開發的光阻設備。它是一個完整的系統,包括相關的軟件、硬件和消耗品。該單元由投影組件、UV源和光敏蒙版組成。投影組件具有三孔設計,允許多層光敏遮罩。UV源可提供高達5瓦的強烈UV光,可用於在掩模上生成陰影圖像。面罩材料是對紫外線敏感的高度專業化、一致穩定的聚合物。蒙版設計為多次使用,性能相同。當暴露在紫外線下時，蒙版的暴露區域變得不溶解且無反應性，這有利於蝕刻。機器的相關軟件功能強大，直觀，允許設計進入，驗證和模擬成像過程。軟件還可以提供整個設計的實時預覽，以驗證成像過程。利用此實時預覽功能,用戶可以調整參數以改善成像結果。軟件還允許自動生成模式。這有助於減少設計光掩碼所需的時間,並提高所生成圖樣的準確性。該工具的消耗品包括用於曝光和開發的光敏面罩。該面罩設計為具有最佳的光學性能和粘附強度。為了優化性能,必須遵循建議的工藝標準,例如使用為特定源強度設計的薄膜,采用非接觸式處理技術,以及使用適合應用程序的液體顯影劑解決方案。STI 280是先進的光刻膠資產，為中小型生產提供了經濟高效的解決方案。高性能和用戶友好的設計使其成為光刻、打印機圖樣和電路板等應用的絕佳選擇。其多才多藝的設計也使其適合廣泛的影像應用。