二手 RHETECH STI 280 #9292510 待售

RHETECH STI 280光刻設備是用於半導體器件創建的創新系統。本單元由濕加工機和等離子體蝕刻工具兩部分組成。濕加工資產利用多種液體化學工藝沈積、開發、去除光致抗蝕劑。等離子體蝕刻模型用於蝕刻光刻劑，以便將所需的設計成型到基板中。濕處理設備的目的是將光刻膠沈積在基材上。這是通過一系列的化學過程來完成的，如自旋塗層、噴塗塗層、浸塗層和真空沈積。這些過程協同工作，在材料上塗抹一層均勻的光致抗蝕劑。一旦光致抗蝕劑被應用到基板上，就會使用光掩模在光致抗蝕劑上創建圖樣。遮罩隨後暴露於光中，並激活光可以到達的光致抗蝕劑。暴露的區域變得更易溶解，可以用合適的溶劑去除。未曝光區域中的光致抗蝕劑保持不變,並保持其原始狀態。然後使用等離子體蝕刻系統從基板上蝕刻光致抗蝕劑，以產生所需的設計。這是通過將底物暴露於含有合適反應性氣體的等離子體中來完成的。氣體與暴露的光致抗蝕劑反應形成自由基，然後在選擇性區域蝕刻掉光致抗蝕劑。STI 280光刻裝置是制造半導體器件的重要工具。這臺機器允許按照精確的規格創建設備，而不會受到汙染或流血的危險。它是生產質量最高的半導體元件的可靠且價格合理的工具。