二手 SANYU SC-701C #201213 待售
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ID: 201213
Sputtering system with cryogenic stage
Manufactured for large-chambered JEOL 5000 or 6000-series microscopes
Sputter coat and freeze specimens immediately before load-lock
Carbon holder Cartridge type
Number of coatings One to nineteen
Coating time 0.3sec/1time
Carbon 5mm dia.Five pieces made by SANYU ELECTRON provided
Chamber size 160mm dia.x160mm in depth
Electrodes One pair
Current MAX. 70A, 12V
Input power 100V, 15A, 50Hz/60Hz
Evacuation system Rotary pump. 100l/min
Vacuum degree 10-3 Torr
Sub-systems:
Bio-Rad Crytrans Controller
Bio-Rad E7400 Sputtering or Evaporation Module
Maxtek Thickness Monitor
Hexland Temperature Control
Dual pumped vacuum system.
SANYU SC-701C是一種高精度光刻設備，專為從紫外線光刻到X射線光刻等多種應用而設計。光致抗蝕劑是一種絕緣材料，用於將電路模式蝕刻和傳遞到半導體晶片上。它有一種光敏塗層，將光轉化成圖樣化的化學反應，可以在底物上產生所需的圖樣。SC-701C是為用戶提供卓越的性能和多功能性在一個緊湊的封裝。它有一個內置的高分辨率投影儀和boarder增強系統的圖像精度。雙軌旋轉裝置提供均勻曝光，具有5度傾斜，以更好地控制曝光。該機還具有一個完全計算機化的控制面板，自動聚焦和可調曝光時間。SANYU SC-701C能夠產生極其精確的圖樣,圖像單元分辨率高達1 µm。它與廣泛的光刻材料和蝕刻溶液相容，可用於蝕刻矽、砷化的半導體材料。該工具還通過認證,可以使用各大制造商提供的最新抗蝕劑。SC-701C易於操作和維護,非常適合多用途的光掩蔽需求。它的高分辨率投影儀、自動聚焦和可調節的曝光時間使您能夠快速準確地創建SEMI和JEDEC標準的光掩碼。它與傳統的PMMA抗蝕劑和正負工藝相兼容，適用於各種加工工藝，如蝕刻和轉移。其緊湊的設計也使得小而緊湊的空間或高投入的生產操作都易於使用。SANYU SC-701C是一種理想的光刻膠資產,適用於廣泛的應用領域,提供卓越的性能、多功能性和精確度。它的高級功能使您能夠輕松地創建精確的圖案,並控制曝光時間和投影儀。此模型將為任何生產車間提供有價值的補充,因為它為復雜和嚴格的光掩碼需求提供了理想的解決方案。
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