二手 SCL CD 400 #9022280 待售

SCL CD 400光刻設備是用於生產復雜半導體結構的強大工具。它旨在通過抗蝕劑的精確分辨率和可以達到的精確深度和寬度來創建特征大小較小的復雜結構。該系統用於光刻工藝，利用光照和蝕刻工藝將掩模圖樣傳遞到矽片等基板上。CD 400光抗蝕劑單元由多個組件組成，包括光刻步進器、輻射計、遮罩機和加熱工具。步進器使用成像光學資產，其中包括光源、透鏡、鏡子和濾鏡，以精確投影蒙版圖案到基板上。輻射計用於測量光照量和監控多個進程運行過程中的照射。遮罩模型由光濾鏡、對準遮罩和遮罩架組成。最後，加熱設備由熱板和烤箱組成，用於在加工過程中精確設置和維持基板溫度。SCL CD 400使用對紫外線輻射敏感的光刻膠。光致抗蝕劑被施加到基板上，面膜被投射到其上。來自光源和成像光學系統的輻射通過掩模傳輸到光阻劑上，抗蝕劑在光線撞擊的地方溶解。將圖樣暴露在光刻膠上後，進行曝光後烘烤，將圖樣置入抗蝕劑中，準備進行蝕刻。CD 400中使用的抗蝕劑具有非常精確的厚度能力，範圍在幾十納米。成像光學單元和輻射計具有0.5微米的分辨率,能夠創建寬度和深度可達0.5微米的特征尺寸的設計。這允許使用其他光刻方法創建非常復雜的幾何形狀。SCL CD 400光刻機為半導體器件制造提供了可靠、精確的工具.它在分辨率、深度和寬度能力方面高度通用，為工程師和科學家開發日益復雜和錯綜復雜的模式提供了強大的平臺。